特許

J-GLOBAL ID：201803011866202106

ガス分離膜、ガス分離膜モジュールおよびガス分離装置

発明者： 原田 基
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-159964
公開番号（公開出願番号）：特開2018-027520
出願日： 2016年08月17日
公開日（公表日）： 2018年02月22日
要約：

【課題】不純物ガス暴露後のガス分離選択性低下が抑制されたガス分離膜の提供;ガス分離膜モジュール;ガス分離装置。【解決手段】分離層を有するガス分離膜であって、分離層が中空シリカ粒子を含むガス分離膜;ガス分離膜モジュール;ガス分離装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

分離層を有するガス分離膜であって、 前記分離層が中空シリカ粒子を含む、ガス分離膜。

IPC (9件)：

B01D 67/00 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/64 ,  C08L 79/08 ,  C08K 7/26 ,  B32B 27/34 ,  B32B 27/20

FI (9件)：

B01D67/00 ,  B01D69/12 ,  B01D69/10 ,  B01D53/22 ,  B01D71/64 ,  C08L79/08 ,  C08K7/26 ,  B32B27/34 ,  B32B27/20 Z

Fターム (77件)：

4D006GA41 ,  4D006HA61 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA10 ,  4D006MA31 ,  4D006MB03 ,  4D006MB04 ,  4D006MB13 ,  4D006MC11 ,  4D006MC18X ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC24 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006MC39 ,  4D006MC45 ,  4D006MC46 ,  4D006MC48 ,  4D006MC53 ,  4D006MC54 ,  4D006MC57 ,  4D006MC58X ,  4D006MC62 ,  4D006MC63 ,  4D006MC71X ,  4D006MC75X ,  4D006MC78 ,  4D006MC79X ,  4D006MC90 ,  4D006NA03 ,  4D006NA12 ,  4D006NA46 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB18 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4D006PB64 ,  4D006PB66 ,  4D006PB67 ,  4D006PB68 ,  4D006PB70 ,  4F100AA20A ,  4F100AK01C ,  4F100AK27B ,  4F100AK49A ,  4F100AK52C ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DE01A ,  4F100DG15 ,  4F100DJ00B ,  4F100EH46 ,  4F100EJ08 ,  4F100EJ54 ,  4F100EJ86 ,  4F100GB56 ,  4F100JA07C ,  4F100JB14C ,  4F100YY00A ,  4F100YY00C ,  4J002CM041 ,  4J002DJ016 ,  4J002FA096 ,  4J002GD05 ,  4J002GF00