特許
J-GLOBAL ID：201803011989461408
太陽電池の製造方法及び構造
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
龍華国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-174172
公開番号（公開出願番号）：特開2018-195860
出願日： 2018年09月18日
公開日（公表日）： 2018年12月06日
要約：
【課題】太陽電池の製造コストを削減し太陽電池の信頼性を改善する新規の太陽電池の製造方法及び構造を提供する。【解決手段】太陽電池420のコンタクトホールが、様々な太陽電池設計に適応するようにレーザアブレーションによって形成される。レーザを使用するコンタクトホールの形成は、拡散領域上に形成された膜を、実質的に均一な厚さを有する膜424と置き換えることにより容易になる。レーザアブレーションのプロセスマージンを大きくするために、深い拡散領域にコンタクトホールが形成されてもよい。【選択図】図13
請求項（抜粋）：
太陽電池の製造方法であって、
太陽電池の裏面の層間絶縁膜の上に、前記層間絶縁膜と合わせた特定の絶縁破壊電圧を有する反射防止コーティングを形成する工程と、
レーザを使用して、前記反射防止コーティング及び前記絶縁膜の層にコンタクトホールを形成して拡散領域を露出させる工程と、
前記拡散領域に電気的に接続するべく、前記コンタクトホール内に金属接点を形成する工程と
を備え、
前記反射防止コーティングは、アモルファスシリコン層及び窒化ケイ素層を含む、製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (11件)：
5F151AA02
, 5F151AA03
, 5F151AA05
, 5F151AA16
, 5F151CB18
, 5F151CB21
, 5F151CB30
, 5F151DA03
, 5F151GA04
, 5F151GA14
, 5F151HA03
