特許

J-GLOBAL ID：201803012277085848

基板ホルダ、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、及び基板ホルダ製造方法

発明者： ラファーレ,レイモンド,ウィルヘルムス,ルイス ,  トジオムキナ,ニナ,ヴァラディミロヴナ ,  カラデ,ヨゲシュ,プラモト ,  ローデンブルク,エリザベス,コリン ,  ファン デルフト,ペーター
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-037450
公開番号（公開出願番号）：特開2018-092193
出願日： 2018年03月02日
公開日（公表日）： 2018年06月14日
要約：

【課題】1つ又は複数の薄膜コンポーネントなどの1つ又は複数の電子コンポーネントがその上で形成される基板テーブル又は基板ホルダを提供する。【解決手段】リソグラフィ装置の基板ホルダは、その表面に設けられた平坦化層を有する。平坦化層は、電子コンポーネントを形成する薄膜スタックを形成するために滑らかな表面を提供する。平坦化層は実質的に均一な厚さである、及び/又はその外面は10μm未満の山部から谷部までの距離を有する。平坦化層は、異なる濃度の2つの溶液を付与することによって形成することができる。バールに表面処理を施して、平坦化層材料の溶液を反発することができる。【選択図】図13

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置で使用するための基板ホルダであって、 表面を有する本体と、 前記表面から突出し、基板を支持する端面を有する複数のバールと、 前記本体表面の少なくとも一部に設けられた平坦化層と、 前記平坦化層上に設けられ、電気コンポーネントを形成する薄膜スタックと、 を備え、 前記平坦化層は、山部から谷部までの距離が約10μm未満である外面を有する、基板ホルダ。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

G03F7/20 521 ,  H01L21/68 N

Fターム (44件)：

2H197AA06 ,  2H197AA09 ,  2H197AA10 ,  2H197AA12 ,  2H197CA03 ,  2H197CA06 ,  2H197CA10 ,  2H197CD02 ,  2H197CD05 ,  2H197DB18 ,  2H197DC03 ,  2H197DC04 ,  2H197GA05 ,  2H197GA17 ,  2H197GA21 ,  2H197HA03 ,  5F131AA02 ,  5F131AA10 ,  5F131BA13 ,  5F131CA01 ,  5F131EA02 ,  5F131EA06 ,  5F131EB01 ,  5F131EB11 ,  5F131EB31 ,  5F131EB54 ,  5F131EB56 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F131EB81 ,  5F131EB89 ,  5F131FA17 ,  5F131JA20 ,  5F131JA26 ,  5F131JA40 ,  5F131KA03 ,  5F131KA23 ,  5F131KA32 ,  5F131KA34 ,  5F131KA35 ,  5F131KA72 ,  5F131KB07 ,  5F131KB12 ,  5F131KB32