特許

J-GLOBAL ID：201803012408520642

金属膜形成用組成物および金属膜形成方法

発明者： 永井 裕己 ,  佐藤 光史
出願人/特許権者： 学校法人 工学院大学
代理人 (1件)： 特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2017003674
公開番号（公開出願番号）：WO2017-135330
出願日： 2017年02月01日
公開日（公表日）： 2017年08月10日
要約：

下記一般式(1)、一般式(2)または一般式(3)で表される金属錯体と、前記金属錯体の対アニオンと、前記金属錯体の溶剤とを含む金属膜形成用組成物。一般式(1)〜一般式(3)中、M1およびM3は、それぞれ独立に、Ag、Cu、Li、Ni、Mn、Zn、およびCoからなる群より選ばれる金属原子を、M3は、Cu、Ni、Mn、およびCoからなる群より選ばれる金属原子をそれぞれ表す。L11〜L32は、それぞれ独立にNH3配位子、R1NH2配位子、OH2配位子、またはジアミン由来の配位子を表し、R1はアルキレン基を表す。1n、1m、3nおよび3mは、それぞれ独立に0〜8の整数を表し、2nおよび2mは、それぞれ独立に0〜4の整数を表し、1n+1mは4〜8の範囲であり、2n+2mは2〜4の範囲であり、3n+3mは2〜8の範囲であり、それぞれ、M1〜M3で表される金属原子の価数に応じて決定される整数を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)、一般式(2)または一般式(3)で表される金属錯体と、前記金属錯体の対アニオンと、前記金属錯体の溶剤とを含む金属膜形成用組成物。

IPC (4件)：

C23C 18/08 ,  C23C 18/14 ,  C23C 18/02 ,  C07F 1/08

FI (5件)：

C23C18/08 ,  C23C18/14 ,  C23C18/02 ,  C07F1/08 C ,  C07F1/08 B

Fターム (21件)：

4G047AA05 ,  4G047AC03 ,  4G048AA01 ,  4G048AA02 ,  4G048AC08 ,  4H048AA01 ,  4H048AA03 ,  4H048AB91 ,  4H048VA56 ,  4H048VB10 ,  4K022AA03 ,  4K022AA13 ,  4K022BA01 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA15 ,  4K022DA06 ,  4K022DA08 ,  4K022DB04 ,  4K022DB24 ,  4K022EA02