特許
J-GLOBAL ID：201803012414155131
ナノスケール構造体を空間的に測定するための方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
▲吉▼川 俊雄
, 市川 寛奈
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-036857
公開番号（公開出願番号）：特開2018-169387
出願日： 2018年03月01日
公開日（公表日）： 2018年11月01日
要約：
【課題】ナノスケール構造体の反応を変えられた周囲条件に対して少なくとも1個のナノスケール構造体が、すばやく、繰り返してさえ、測定される方法を提供する。【解決手段】以下のステップを含む方法による。蛍光マーカによって異なる位置で個別的な構造体をマークする(1)ステップ、個別的な構造体を試料内の位置が既知である個別的な位置決め補助に連結する(2)ステップ、励起光によって蛍光マーカを励起し、励起光の強度分布が局所的最小値を有するステップ、局所的最小値を、寸法が励起光の波長での回折限界値より大きくないそれぞれの位置決め補助の位置のまわりの至近距離範囲内の異なる位置に配置する(3)ステップ、個別的な蛍光マーカに対してかつ最小値の異なる位置に対して別々に試料から放出される蛍光を記録する(4)ステップ、および記録される蛍光の強度から試料内の個別的な蛍光マーカの位置を確定する(5)ステップ。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料(13)内の複数のナノスケール構造体を空間的に測定する方法であって、前記方法が以下のステップ、すなわち:
-蛍光マーカ(8、9)によって異なる位置で前記個別的な構造体をマークする(1)ステップ、
-蛍光の光(42)の放出のために励起光(25)によって前記蛍光マーカ(8、9)を励起するステップであって、
-前記励起光(25)の強度分布(24)
-または前記蛍光マーカ(8、9)によって前記蛍光の光の放出に関する影響を有する更なる光の強度分布(48)のどちらかが、
前記試料(13)内の異なる位置に配置される局所的最小値(26)を備えるステップ、
-前記試料(13)から放出される蛍光の光(42)を
-前記個別的な蛍光マーカ(8、9)に対しておよび
-前記最小値(26)の前記異なる位置(20、21、22、23)に対して
両方とも別々に記録する(4)ステップ、ならびに
-前記最小値(26)の前記異なる位置(20、21、22、23)に対する前記それぞれの蛍光マーカ(8、9)に対して記録される前記蛍光の光(42)の強度から前記試料(13)内の前記個別的な蛍光マーカ(8、9)の位置を確定する(5)ステップを含み、
-前記個別的な構造体(7)を前記試料(13)内の位置が、
-既知のまたは
-個別的な位置決め補助(12)によって反射される光から連結する(2)ステップの後で確定される、
前記位置決め補助(12)に連結する更なるステップ(2)を前記方法が含み、ならびに、
-前記励起ステップが、前記局所的最小値(26)を前記それぞれの位置決め補助の位置(19)のまわりの至近距離範囲(18)内の前記異なる位置(20、21、22、23)に配置する(3)ステップであって、前記至近距離範囲(18)の寸法が、前記励起光(25)の波長および前記蛍光の光(42)の波長での回折限界値より大きくないステップを含むことを特徴とする方法。
IPC (4件)：
G01N 21/64
, G02B 21/00
, B82Y 35/00
, B82Y 15/00
G01N21/64 F
, G01N21/64 E
, G02B21/00
, B82Y35/00
, B82Y15/00
2G043AA03
, 2G043DA02
, 2G043EA01
, 2G043FA01
, 2G043FA02
, 2G043GA02
, 2G043GA06
, 2G043GA07
, 2G043GA08
, 2G043GB01
, 2G043GB05
, 2G043GB21
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA09
, 2G043HA15
, 2G043JA02
, 2G043JA03
, 2G043KA09
, 2G043MA01
, 2G043NA01
, 2G043NA04
, 2H052AA09
, 2H052AC04
, 2H052AC15
, 2H052AC29
, 2H052AC34
, 2H052AD05
, 2H052AD34
, 2H052AD35
, 2H052AF02
