様々な流れ状態下で高精度を維持するためのインライン超音波計測器(USM)状態基準モニタリング(CBM)ベースの適応

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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小野新次郎 , 山本修 , 宮前徹 , 中西基晴 , 大牧綾子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-508189
公開番号（公開出願番号）：特表2018-529091
出願日： 2016年09月19日
公開日（公表日）： 2018年10月04日
要約：

システム(100)は、制御システム(138)およびフィールドデバイス(200)を含む。制御システムは、フィールドデバイスとデータをやり取りするように構成されている。フィールドデバイスは、プロセス流体の流れプロファイル用の第1の特性曲線の測定精度における偏差が、プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定する(520)。フィールドデバイスは、偏差が適用公差よりも大きいか否かを判定する(525)。フィールドデバイスは、偏差が適用公差よりも大きい場合、流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算も行う(540)。フィールドデバイスは、新しい特性曲線を使用して、プロセス流体の流量を計算する(560)。

請求項（抜粋）：

1つまたは複数のフィールドデバイス(200)とデータをやり取りするように構成された制御システム(138)と、フィールドデバイス(200)であって、プロセス流体の流れプロファイル用の第1の特性曲線の測定精度における偏差が、前記プロセス流体のインライン状態をモニタしている間に検出されているか否かを判定し(520)、前記偏差が、適用公差よりも大きいか否かを判定し(525)、前記偏差が前記適用公差よりも大きい場合、前記流れプロファイルの測定において検出されたその時の流れ状態に従って、新しい特性曲線用にインライン再計算を行い(540)、かつ前記新しい特性曲線を使用して、前記プロセス流体の流量を計算する(560)ように構成された、フィールドデバイス(200)と、を備えるシステム(100)。

IPC (2件)：

G01F 1/00 , G01F 1/66

FI (4件)：

G01F1/00 K , G01F1/00 T , G01F1/00 Y , G01F1/66 B

Fターム (9件)：

2F030CA03 , 2F030CC11 , 2F030CD05 , 2F030CE02 , 2F030CE04 , 2F030CE09 , 2F030CE22 , 2F030CE27 , 2F035DA04

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