特許
J-GLOBAL ID：201803013308643050
イオンビーム装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-130339
公開番号（公開出願番号）：特開2018-152365
出願日： 2018年07月10日
公開日（公表日）： 2018年09月27日
要約：
【課題】イオンビームにより観察・加工・計測する際に、イオンエネルギーを変えて照射することが可能で、設定条件によって、超高分解能観察・低損傷観察・高精度寸法計測や極微細高速加工を実現するイオンビーム装置を提供する。【解決手段】少なくとも2種類のガスをイオン化できるガス電界電離イオン源と、4個の電極から構成される静電対物レンズを備えたイオンビーム装置において、 第一種のガスイオンを照射するときの第一の加速電圧に対して、前記静電レンズの各々の電極への印加電圧および試料電圧と、第二種のガスイオンを照射するとき、第一の加速電圧とは異なる第二の加速電圧に対して、前記静電レンズの各々の電極への印加電圧および試料電圧とを少なくとも記憶する制御装置を備えることを特徴とするイオンビーム装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
エミッタティップを有し、前記エミッタティップから放出されるイオンビームを制御するガス電界電離イオン源と、前記ガス電界電離イオン源からの前記イオンビームを試料に照射する照射光学系と、前記イオンビームを前記試料に照射したことに起因する荷電粒子を検出する荷電粒子検出器と、少なくとも第一乃至第四の電極を有する、試料に最も近い静電レンズとを有するイオンビーム装置において、
前記試料と前記試料に最も近い第一の電極との距離が、前記第一の電極と試料に2番目に近い第二の電極との第1の間隔と、試料に最も近い第一の電極の厚みとを加えた距離以下であることを特徴とするイオンビーム装置。
IPC (5件)：
H01J 37/28
, H01J 37/08
, H01J 37/12
, H01J 37/248
, H01J 37/317
H01J37/28 Z
, H01J37/08
, H01J37/12
, H01J37/248 B
, H01J37/248 C
, H01J37/317 D
5C030DF02
, 5C033CC04
, 5C033UU10
, 5C034DD03
, 5C034DD06
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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特開平2-018848
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イオン源およびそれを用いたイオンビーム装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2011-224473
出願人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
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投影レンズ構成体
公報種別：公表公報
出願番号：特願2010-548047
出願人：マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
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