特許
J-GLOBAL ID：201803013363461824

磁気ディスク基板用研磨液組成物

発明者：
多久島 大樹

多久島 大樹 について

, 
山口 哲史

山口 哲史 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-222412
公開番号（公開出願番号）：特開2018-081733
出願日： 2016年11月15日
公開日（公表日）： 2018年05月24日
要約：
【課題】粗研磨における研磨速度を向上でき、研磨後の長波長うねりを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物を提供する。【解決手段】本開示は、非球状シリカ粒子A及び水を含み、pHが、0.5以上6.0以下であり、遠心沈降法により得られる重量換算での粒度分布において累積頻度が10%、50%、90%となる粒径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、前記非球状シリカ粒子Aは、式(D90-D10)で表されるスパンが180nm以上であり、D50が180nm以上である、磁気ディスク基板用研磨液組成物に関する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
非球状シリカ粒子A及び水を含み、 pHが、0.5以上6.0以下であり、 遠心沈降法により得られる重量換算での粒度分布において累積頻度が10%、50%、90%となる粒径をそれぞれD10、D50、D90としたとき、前記非球状シリカ粒子Aは、式(D90-D10)で表されるスパンが180nm以上であり、D50が180nm以上である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
IPC (4件)：
G11B 5/84 ,  C09K 3/14 ,  C09G 1/02 ,  B24B 37/00
FI (4件)：
G11B5/84 A ,  C09K3/14 550D ,  C09G1/02 ,  B24B37/00 H
Fターム (27件)：
3C158AA07 ,  3C158AA18 ,  3C158CA01 ,  3C158CA04 ,  3C158CA06 ,  3C158CB01 ,  3C158CB03 ,  3C158CB10 ,  3C158DA02 ,  3C158DA18 ,  3C158EA01 ,  3C158EB01 ,  3C158ED04 ,  3C158ED05 ,  3C158ED10 ,  3C158ED12 ,  3C158ED16 ,  3C158ED23 ,  3C158ED26 ,  3C158ED28 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14
引用特許：
審査官引用 (2件)

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