特許

J-GLOBAL ID：201803013703267785

ボロシロキサンの製造方法

発明者： 吉村 彩 ,  山下 浩 ,  五十嵐 正安 ,  島田 茂 ,  佐藤 一彦
出願人/特許権者： 国立研究開発法人産業技術総合研究所
代理人 (3件)： 平川 明 ,  佐貫 伸一 ,  石丸 竜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-063739
公開番号（公開出願番号）：特開2018-165261
出願日： 2017年03月28日
公開日（公表日）： 2018年10月25日
要約：

【課題】リチウムイオン電池の電解質添加剤等として重要なボロシロキサンの工業的に有利な製造方法の提供。【解決手段】ルイス酸を有するホウ素化合物であり、ルイス酸性の指標アクセプター数が60〜110のホウ素化合物。トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン等の触媒存在下、R1R2R3SiH又はR1R2R4SiOSiR1R2Hで示されるヒドロシランと、R5nB(OR6)3-n等で示されるホウ酸誘導体を反応させる、R5nB(OSiR1R2R3)3-n等で示されるボロシロキサンの製造方法。[R1〜R3、R5は、夫々独立して、C1〜12アルキル又はC6〜12アリール;R4、R6は、夫々独立して、C1〜12アルキル、C6〜12アリール、H;nは0〜2の整数]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

Si-H結合を有するヒドロシランと、B-OR結合(Rは炭素原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数6〜12のアリール基、又は水素原子)を有するホウ酸、ボロン酸、又はこれらの誘導体を触媒存在下で反応させてSi-O-B結合を有するボロシロキサンを生成する反応工程を含むボロシロキサンの製造方法であって、 前記触媒が、ルイス酸性を有するホウ素化合物であることを特徴とする、ボロシロキサンの製造方法。

IPC (2件)：

C07F 7/08 ,  C07F 7/21

FI (3件)：

C07F7/08 W ,  C07F7/08 Z ,  C07F7/21

Fターム (18件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP03 ,  4H049VQ97 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS02 ,  4H049VS07 ,  4H049VS78 ,  4H049VT39 ,  4H049VT40 ,  4H049VT42 ,  4H049VT43 ,  4H049VT46 ,  4H049VU24 ,  4H049VV02 ,  4H049VW02