特許
J-GLOBAL ID：201803013952527231
レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-075874
公開番号（公開出願番号）：特開2013-235251
特許番号：特許第6246480号
出願日： 2013年04月01日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (A)酸不安定基を有する樹脂、
(B)式(II)で表される酸発生剤及び
(D)式(I)で表される化合物を含有する有機溶剤現像用のレジスト組成物。
[式(I)中、
RD1及びRD2は、それぞれ独立に、炭素数1〜12の炭化水素基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7のアシル基、炭素数2〜7のアシルオキシ基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、ニトロ基又はハロゲン原子を表す。
m’及びn’は、それぞれ独立に、0〜4の整数を表し、m’が2以上の場合、複数のRD1は同一又は互いに相異なり、n’が2以上の場合、複数のRD2は同一又は互いに相異なる。]
[式(II)中、
Rb1及びRb2は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。
Lb1は、炭素数1〜17の2価の飽和炭化水素基を表し、該2価の飽和炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
環Wb1は、炭素数2〜36の複素環を表す。
Rb3は、水素原子又は炭素数1〜12の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
Rb4は、炭素数1〜6の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる-CH2-は、-O-又は-CO-で置き換わっていてもよい。
sは、0〜6の整数を表し、sが2以上の場合、複数のRb4は同一又は相異なる。
Z1+は、有機カチオンを表す。]
IPC (10件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, C08F 20/10 ( 200 6.01)
, C07C 309/17 ( 200 6.01)
, C07C 381/12 ( 200 6.01)
, C07C 63/70 ( 200 6.01)
, C07D 211/46 ( 200 6.01)
, C07D 451/10 ( 200 6.01)
, C07D 327/08 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/004 501
, G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, C08F 20/10
, C07C 309/17
, C07C 381/12
, C07C 63/70
, C07D 211/46
, C07D 451/10
, C07D 327/08
