シリコンチップ及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：栗原浩之 , 山▲崎▼ 雄一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-037453
公開番号（公開出願番号）：特開2018-140478
出願日： 2017年02月28日
公開日（公表日）： 2018年09月13日
要約：

【課題】有機溶剤フリーで形成できるもので、微細孔エッジの耐久性に優れた人工脂質二分子膜形成用のシリコンチップ及びその製造方法を提供する。【解決手段】シリコン基板に設けられた貫通孔11と、この貫通孔を覆うように設けられた窒化シリコン膜21と、この上に設けられた第1酸化シリコン膜22と、前記貫通孔の前記シリコン基板の内面及び前記窒化シリコン膜の前記第1酸化シリコン膜とは反対側に設けられた第2酸化シリコン膜23と、前記第1酸化シリコン膜、前記窒化シリコン膜及び前記第2酸化シリコン膜に設けられた微細孔と、を具備し、前記微細孔は、前記第2酸化シリコン膜側から前記第1酸化シリコン膜側の開口に向かって前記開口側ほど内径が漸大する形状であり、前記微細孔の内周面は、前記窒化シリコン膜の領域の内周面である第1傾斜面31aと、前記第1酸化シリコン膜の領域の内周面である第2傾斜面32aとを含み、前記第2傾斜面の膜厚方向に対して傾斜する傾きが、前記第1傾斜面の傾きより大きい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

シリコン基板に設けられた貫通孔と、この貫通孔を覆うように設けられた窒化シリコン(Si3N4)膜と、この上に設けられた第1酸化シリコン(SiO2)膜と、前記貫通孔の前記シリコン基板の内周面及び前記窒化シリコン膜の前記第1酸化シリコン膜とは反対側に設けられた第2酸化シリコン膜と、前記第1酸化シリコン膜、前記窒化シリコン膜及び前記第2酸化シリコン膜に設けられた微細孔と、を具備し、前記微細孔は、前記第2酸化シリコン膜側から前記第1酸化シリコン膜側の開口に向かって前記開口側ほど内径が漸大する形状であり、前記微細孔の内周面は、前記窒化シリコン膜の領域の内周面である第1傾斜面と、前記第1酸化シリコン膜の領域の内周面である第2傾斜面とを含み、前記第2傾斜面の膜厚方向に対して傾斜する傾きが、前記第1傾斜面の傾きより大きいことを特徴とするシリコンチップ。

IPC (4件)：

B81B 1/00 , B32B 3/02 , B32B 9/00 , B81C 1/00

FI (4件)：

B81B1/00 , B32B3/02 , B32B9/00 A , B81C1/00

Fターム (28件)：

3C081AA07 , 3C081AA17 , 3C081BA03 , 3C081CA02 , 3C081CA15 , 3C081CA26 , 3C081CA28 , 3C081DA03 , 3C081DA29 , 3C081DA30 , 3C081EA01 , 3C081EA26 , 4F100AA12B , 4F100AA20C , 4F100AA20D , 4F100AB11A , 4F100AK17E , 4F100BA04 , 4F100BA07 , 4F100DC11A , 4F100DC11B , 4F100DC11C , 4F100DC11D , 4F100EH46 , 4F100EJ15 , 4F100GB66 , 4F100JG04E , 4F100JG05E

引用特許：

審査官引用 (1件)

特許第6863833号

引用文献：

審査官引用 (4件)

シリコン微細加工で創るイオンチャネルチップ
Shaped Apertures in Photoresist Films Enhance the Lifetime and Mechanical Stability of Suspended Lip
マイクロマシーニングとマイクロメカトロニクス, 19920620, 12-15ページ

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