パッシベーション層形成用組成物、パッシベーション層付半導体基板及びその製造方法、太陽電池素子及びその製造方法並びに太陽電池

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人太陽国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-128102
公開番号（公開出願番号）：特開2018-006428
出願日： 2016年06月28日
公開日（公表日）： 2018年01月11日
要約：

【課題】高温環境、真空環境等での太陽電池作製工程を経由してもパッシベーション効果に優れるパッシベーション層を簡便な手法で形成することが可能なパッシベーション層形成用組成物の提供。【解決手段】Bi(OR1)mで表される化合物(式中、R1はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基又はアシル基を表す。mは3又は5を表す。)及び酸化アルミニウム前駆体を含むパッシベーション層形成用組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物及び酸化アルミニウム前駆体を含むパッシベーション層形成用組成物。 Bi(OR1)m (I) [一般式(I)中、R1はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基又はアシル基を表す。mは3又は5を表す。]

IPC (4件)：

H01L 21/316 , H01L 31/021 , H01L 31/18 , H01L 31/068

FI (4件)：

H01L21/316 G , H01L31/04 240 , H01L31/04 422 , H01L31/06 300

Fターム (22件)：

4H048AA01 , 4H048AB91 , 4H048VA80 , 4H048VB10 , 4H050AA01 , 4H050AB91 , 5F058BA20 , 5F058BC03 , 5F058BF46 , 5F058BF47 , 5F058BH01 , 5F058BJ03 , 5F151AA02 , 5F151CB13 , 5F151CB24 , 5F151DA03 , 5F151DA20 , 5F151FA15 , 5F151FA25 , 5F151GA04 , 5F151GA15 , 5F151HA03

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