特許
J-GLOBAL ID：201803014469263475

極紫外線フォトマスクポッド

発明者：
薛 新民

薛 新民 について

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荘 家和

荘 家和 について

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李 承儒

李 承儒 について

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黄 政傑

黄 政傑 について


出願人/特許権者：
家登精密工業股▲ふん▼有限公司

家登精密工業股▲ふん▼有限公司 について


代理人 (1件)： 新保 斉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-010514
公開番号（公開出願番号）：特開2018-120221
出願日： 2018年01月25日
公開日（公表日）： 2018年08月02日
要約：
【課題】微粒子がフォトマスク及び搭載面の間に移動することの低減、或いは微粒子がフォトマスク上に移動し、汚染をする機会を低減する極紫外線フォトマスクポッドを提供する。【解決手段】ベース21は、上表面210と枠縁215を有し、上表面は、複数個の凸出した定位部214を設け、フォトマスクを搭載する位置を定義している。枠縁は上表面と連接し、囲繞している。上表面は、搭載面211、スリット212、第一接面213を包含し、スリットは連続環状構造であり、スリットの底部は搭載面よりも低く、搭載面、スリット、第一接面の順で上表面の内側に枠縁に向かって設置される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
外部ケースと内部ケースからなり、前記外部ケースは互いに対応するケース上部とケース下部を包括し、前記内部ケースを収容するために用いられる収容空間を定義し、前記内部ケースは、 上表面と枠縁とを有し、前記上表面にフォトマスク搭載位置を定義する凸出した複数の定位部を設け、前記枠縁が前記上表面と連接且つ囲繞しているベースと、 前記ベースと当接するために用いられ、並びに凹チャンバーと第二接面とを有し、前記凹チャンバーは、前記極紫外線フォトマスクを収容するために用いられ、前記第二接面と、前記第一接面とは互いに対応し、密閉状態を形成する上蓋と、を包括し、前記上表面は、 極紫外線フォトマスクをフォトマスク搭載位置に設置するために用いる搭載面と、 連続環状構造を有し、その底部が前記搭載面より低いスリットと、 前記第一接面と、を包含し、前記搭載面、前記スリット、前記第一接面の順で前記上表面の内側に前記枠縁に向かって配置されていることを特徴とする極紫外線フォトマスクポッド。
IPC (4件)：
G03F 1/66 ,  G03F 1/24 ,  G03F 7/20 ,  B65D 85/38
FI (4件)：
G03F1/66 ,  G03F1/24 ,  G03F7/20 521 ,  B65D85/38
Fターム (19件)：
2H195BA10 ,  2H195BE12 ,  2H195CA22 ,  2H197BA11 ,  2H197BA23 ,  2H197CA10 ,  2H197GA01 ,  2H197GA20 ,  2H197GA24 ,  2H197HA03 ,  3E096AA01 ,  3E096BA30 ,  3E096BB05 ,  3E096CA02 ,  3E096CB03 ,  3E096DA25 ,  3E096FA03 ,  3E096FA40 ,  3E096GA05
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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