特許
J-GLOBAL ID:201803014766934826
プラズマ生成装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西村 竜平
, 齊藤 真大
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-123711
公開番号(公開出願番号):特開2017-228422
出願日: 2016年06月22日
公開日(公表日): 2017年12月28日
要約:
【課題】配線構造を簡単にしつつ、複数の高周波アンテナによる誘導結合プラズマの均一性を向上する。【解決手段】真空容器2と、真空容器2内において並列に配置された直線状をなす複数の高周波アンテナ3からなる高周波アンテナ群と、真空容器2内に誘導結合プラズマPを生成するための高周波を複数の高周波アンテナ3に印加する高周波電源4とを備えている。高周波アンテナ3は、高周波が印加される印加端部3Aと、接地された接地端部3Bとを有している。高周波アンテナ群は、隣り合う2つの高周波アンテナ3において一方の高周波アンテナ3の印加端部3Aと他方の高周波アンテナ3の接地端部3Bとが隣り合うように構成されている。【選択図】図3
請求項(抜粋):
真空排気され且つガスが導入される真空容器と、
前記真空容器内において並列に配置された直線状をなす複数の高周波アンテナからなる高周波アンテナ群と、
前記真空容器内に誘導結合プラズマを生成するための高周波を前記高周波アンテナ群に印加する高周波電源とを備え、
前記高周波アンテナは、前記高周波が印加される印加端部と、接地された接地端部とを有しており、
前記高周波アンテナ群は、隣り合う2つの前記高周波アンテナにおいて一方の前記高周波アンテナの前記印加端部と他方の前記高周波アンテナの前記接地端部とが隣り合うように構成されている、プラズマ生成装置。
IPC (4件):
H05H 1/46
, C23C 14/40
, C23C 16/509
, H01L 21/31
FI (4件):
H05H1/46 L
, C23C14/40
, C23C16/509
, H01L21/31 C
Fターム (51件):
2G084AA02
, 2G084AA03
, 2G084AA04
, 2G084AA05
, 2G084BB01
, 2G084BB02
, 2G084BB05
, 2G084BB11
, 2G084BB13
, 2G084BB14
, 2G084BB25
, 2G084BB35
, 2G084CC13
, 2G084CC33
, 2G084DD03
, 2G084DD12
, 2G084DD22
, 2G084DD25
, 2G084DD32
, 2G084DD34
, 2G084DD35
, 2G084DD38
, 2G084DD48
, 2G084DD55
, 2G084DD61
, 2G084FF21
, 2G084FF32
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA50
, 4K029CA05
, 4K029CA13
, 4K029DC05
, 4K029DC28
, 4K029DC35
, 4K030FA04
, 4K030JA19
, 4K030KA16
, 4K030KA30
, 5F045AA08
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AC01
, 5F045AC02
, 5F045AC11
, 5F045AC12
, 5F045AC15
, 5F045BB02
, 5F045EH04
, 5F045EH11
, 5F045EH20
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