バフィング用タングステン研磨剤、研磨剤用貯蔵液及び研磨方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 清水義憲 , 平野裕之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-156353
公開番号（公開出願番号）：特開2018-026422
出願日： 2016年08月09日
公開日（公表日）： 2018年02月15日
要約：

【課題】タングステン材料膜を用いたダマシン配線形成における研磨工程で第三の研磨工程(仕上げ研磨工程、バフィング研磨工程)で使用する研磨剤として被研磨面の平坦性を充分に向上でき、かつ、タングステン材料の表面粗さを充分に低減できる研磨剤を提供する。【解決手段】タングステン膜13のバフィング用研磨剤として、シリカを含む砥粒と、過酸化水素と、水溶性高分子と、水と、を含有し、砥粒が研磨剤中で負のゼータ電位を有する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

シリカを含む砥粒と、過酸化水素と、水溶性高分子と、水と、を含有し、前記砥粒が研磨剤中で負のゼータ電位を有する、バフィング用タングステン研磨剤。

IPC (4件)：

H01L 21/304 , C09K 3/14 , C09G 1/02 , B24B 37/00

FI (7件)：

H01L21/304 622D , C09K3/14 550D , C09K3/14 550Z , C09G1/02 , B24B37/00 H , H01L21/304 621D , H01L21/304 622X

Fターム (27件)：

3C158AA07 , 3C158AC04 , 3C158CA01 , 3C158CB01 , 3C158DA12 , 3C158DA17 , 3C158EA11 , 3C158EB01 , 3C158ED10 , 3C158ED23 , 3C158ED26 , 5F057AA03 , 5F057AA09 , 5F057AA28 , 5F057BA15 , 5F057BA22 , 5F057BB25 , 5F057BB31 , 5F057BB36 , 5F057DA03 , 5F057EA01 , 5F057EA16 , 5F057EA21 , 5F057EA22 , 5F057EA29 , 5F057EA32 , 5F057EA37

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