特許
J-GLOBAL ID:201803015447249165
ガス供給装置
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-153655
公開番号(公開出願番号):特開2018-021237
出願日: 2016年08月04日
公開日(公表日): 2018年02月08日
要約:
【課題】 プラグに対して、ガスの供給が十分に可能なガス供給装置を提供すること。【解決手段】 本発明のガス供給装置1は、取鍋5,50内に収容された溶鋼Mの精錬時にガスの供給を受けるガス受け口21を有し取鍋5,50に取り付けられたガス吹き込みプラグ6にガスを供給する主ガス流路2と、ガス受け口21より ガスの供給を受けてガスを蓄える蓄圧ボンベ7と蓄圧ボンベ7からガス吹き込みプラグ6に任意のガス量のガスを供給するガス調整手段37を持つ副ガス流路3と、主ガス流路2に設けられ、蓄圧ボンベ7に流入するガスの圧力が所定の圧力以上の場合に、主ガス流路2よりガス吹き込みプラグ6にガスを送るガス制御部4と、を有することを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
取鍋内に収容された溶鋼の精錬時にガスの供給を受けるガス受け口を有し該取鍋に取り付けられたガス吹き込みプラグにガスを供給する主ガス流路と、
該ガス受け口より ガスの供給を受けてガスを蓄える蓄圧ボンベと該蓄圧ボンベから該ガス吹き込みプラグに任意のガス量のガスを供給するガス調整手段を持つ副ガス流路と、
該主ガス流路に設けられ、該蓄圧ボンベに流入するガスの圧力が所定の圧力以上の場合に、該主ガス流路より該ガス吹き込みプラグにガスを送るガス制御部と、
を有することを特徴とするガス供給装置。
IPC (4件):
C21C 7/00
, C21C 7/072
, F27D 7/02
, F27D 3/16
FI (4件):
C21C7/00 P
, C21C7/072 Z
, F27D7/02 Z
, F27D3/16 Z
Fターム (15件):
4K013BA14
, 4K013CA01
, 4K013CA02
, 4K013CA11
, 4K013CA23
, 4K013CC02
, 4K013CF13
, 4K013FA04
, 4K055AA04
, 4K055MA03
, 4K055MA17
, 4K063AA04
, 4K063BA02
, 4K063CA05
, 4K063DA05
引用特許:
前のページに戻る