特許
J-GLOBAL ID：201803015447494410
低屈折率膜及びその製造方法、反射防止膜及びその製造方法、並びに低屈折率膜用コーティング液セット
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 高橋 俊一
, 伊藤 正和
, 高松 俊雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-212810
公開番号（公開出願番号）：特開2015-075691
特許番号：特許第6307830号
出願日： 2013年10月10日
公開日（公表日）： 2015年04月20日
請求項（抜粋）：
【請求項1】微細構造を表面に有する固体基材の表面に形成される低屈折率膜の製造方法であって、
(i)固体基材の表面にポリカチオン溶液を接触させる工程、次いでリンスする工程、
(ii)前記(i)の後の固体基材の表面に負の電荷を有する微粒子の分散液を接触させる工程、次いでリンスする工程、
(iii)前記(i)と前記(ii)とを交互に繰り返し微粒子積層膜を形成する工程、
(iv)前記微粒子積層膜にポリカチオン溶液を接触させる工程、次いでリンスする工程、
(v)前記(iv)の後の微粒子積層膜に、一般式M2O・nSiO2(n=0.5〜8、MはLi,Na,又はKのアルカリ金属を示す)で示される水溶性珪酸塩を含む珪素化合物溶液を接触させる工程、次いでリンスする工程、及び
(vi)前記(iv)と前記(v)とを交互に繰り返し、微粒子積層膜にポリカチオン溶液中のポリカチオンと珪素化合物溶液中の水溶性珪酸塩とを吸着させる工程、
を含むことを特徴とする低屈折率膜の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
