特許
J-GLOBAL ID：201803015506736377
基板上への試料の制御供給
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人朝日奈特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-521882
特許番号：特許第6239613号
出願日： 2013年07月15日
請求項（抜粋）：
【請求項1】基板上に流体試料を供給する方法であって、前記方法は、
試料塗布装置の第1の像および試料塗布装置の第2の像を含む、基板に近接する試料塗布装置の像を取得すること、
前記第1の像における異なる画素列についての最大強度変化位置にそれぞれの位置が対応する一連の位置に関数形式を当てはめることにより、前記第1の像についての第1基準位置を判定すること、
前記第1基準位置と前記第2の像の互いに対応する位置との間の距離に基づき、前記基板の表面に対する前記試料塗布装置の高さを判定すること、および
前記試料塗布装置を用いて前記基板上に前記流体試料を供給することを含み、前記供給することは、
前記試料塗布装置と前記基板との間の相対的な移動をもたらすために、前記試料塗布装置を移動させるか、前記基板を移動させるか、または前記試料塗布装置および前記基板の両方を移動させること、および
前記移動の間、前記基板の表面に対して、目標高さの2マイクロメートル以内に前記試料塗布装置を維持することを含んでいる方法。
IPC (2件)：
G01N 1/28 ( 200 6.01)
, G01N 35/10 ( 200 6.01)
G01N 1/28 V
, G01N 35/10 C
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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