特許

J-GLOBAL ID：201803015663615893

表面平坦化方法及び微細構造体の製造方法

発明者： 八井 崇 ,  杉森 輝彦
出願人/特許権者： 特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構
代理人 (1件)： 安彦 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-011611
公開番号（公開出願番号）：特開2018-120967
出願日： 2017年01月25日
公開日（公表日）： 2018年08月02日
要約：

【課題】近接場光を用い、表面の平坦化を短時間で実現できる表面平坦化方法及び微細構造体の製造方法を提供する。【解決手段】近接場光を用いた表面平坦化方法であって、極性基と、ハロゲンとを含む極性溶液3を、微細の凹凸部22が形成された被処理体2の表面21に塗布し、前記極性基と前記凹凸部22とを結合させる塗布工程と、前記被処理体2の表面に光を照射し、前記凹凸部22周辺に近接場光を発生させる照射工程と、を備えることを特徴とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

近接場光を用いた表面平坦化方法であって、 極性基と、ハロゲンとを含む極性溶液を、微細の凹凸部が形成された被処理体の表面に塗布し、前記極性基と前記凹凸部とを結合させる塗布工程と、 前記被処理体の表面に光を照射し、前記凹凸部周辺に近接場光を発生させる照射工程と、 を備えることを特徴とする表面平坦化方法。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  C03C 15/02

FI (2件)：

H01L21/306 M ,  C03C15/02

Fターム (12件)：

4G059AA08 ,  4G059AC03 ,  4G059BB04 ,  4G059BB12 ,  4G059BB13 ,  5F043AA02 ,  5F043AA05 ,  5F043AA31 ,  5F043AA37 ,  5F043DD08 ,  5F043DD16 ,  5F043FF07

引用特許：

審査官引用 (2件)

• エッチング方法並びにナノデバイスの作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-338337   出願人：独立行政法人科学技術振興機構
• 表面平坦化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2015-049628   出願人：特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構