特許
J-GLOBAL ID：201803016049180577
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-211252
公開番号（公開出願番号）：特開2013-100473
特許番号：特許第6249594号
出願日： 2012年09月25日
公開日（公表日）： 2013年05月23日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 式(I)で表される構造単位を有する樹脂。
[式(I)中、
R1は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
n及びmは、それぞれ1を表す。
X1は、単結合、式(a-1)で表される基又は式(a-2)で表される基を表す。
(式(a-1)中、
sは0又は1の整数を表す。
X10及びX11は、それぞれ独立に、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。
A10及びA12は、それぞれ独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表すが、炭素数6の脂環式炭化水素基を除く。
A11は、置換基を有していてもよい炭素数1〜6の脂肪族炭化水素基を表すが、炭素数6の脂環式炭化水素基を除く。)
-O-(CH2)l-* (a-2)
(式(a-2)中、lは1〜6の整数を表す。*はOとの結合手を表す。)]
IPC (5件)：
C08F 12/24 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, C08F 20/30 ( 200 6.01)
, C07C 69/90 ( 200 6.01)
C08F 12/24
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, C08F 20/30
, C07C 69/90 CSP
出願人引用 (1件)
審査官引用 (8件)
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