特許

J-GLOBAL ID：201803016229873848

被膜および被膜の製造方法

発明者： ハンス-ユルゲン シュライナー ,  ターニャ アインヘリンガー-ミュラー ,  トビアス シュミット ,  ラルフ モース ,  ミヒャエル シューベアト
出願人/特許権者： セラムテック ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (5件)： アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  森田 拓 ,  前川 純一 ,  二宮 浩康 ,  上島 類
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-509917
公開番号（公開出願番号）：特表2018-525842
出願日： 2016年08月26日
公開日（公表日）： 2018年09月06日
要約：

本発明の対象は、圧電特性を有する被膜、および圧電特性を有する被膜の製造方法、殊にエアロゾルデポジション法(ADMプロセス(Aerosol Deposition Method))による、圧電特性を有する被膜の製造方法である。

請求項（抜粋）：

圧電特性を有する被膜において、成膜の間および成膜の後に、500°Cを上回る温度処理が行われていないことを特徴とする、前記圧電特性を有する被膜。

IPC (5件)：

H01L 41/43 ,  H01L 41/314 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/047 ,  H01L 41/257

FI (5件)：

H01L41/43 ,  H01L41/314 ,  H01L41/187 ,  H01L41/047 ,  H01L41/257