特許
J-GLOBAL ID:201803016556502950
ボイラ用脱酸素剤、及びボイラ水系の脱酸素方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
大谷 保
, 片岡 誠
, 有永 俊
, 中谷 将之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-134271
公開番号(公開出願番号):特開2018-003124
出願日: 2016年07月06日
公開日(公表日): 2018年01月11日
要約:
【課題】幅広い温度条件において、酸素除去効果に優れるボイラ用脱酸素剤の提供。【解決手段】(A)一般式(I)で表されるヒドロキシルアミン化合物、(B)N-置換アミノ基を有する複素環式化合物、及び(C)アミノフェノール誘導体を含むボイラ用脱酸素剤。(A)成分のヒドロキシルアミン化合物が、N,N-ジエチルヒドロキシルアミンであるボイラ用脱酸素剤。[R1及びR2は夫々独立に、C1〜5のアルキル基]【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(I)で表されるヒドロキシルアミン化合物、(B)N-置換アミノ基を有する複素環式化合物、及び(C)下記一般式(II)で表されるアミノフェノール誘導体を含むボイラ用脱酸素剤。
IPC (6件):
C23F 11/14
, F22B 37/52
, F22B 37/56
, F22B 37/00
, C23F 11/12
, C02F 1/70
FI (7件):
C23F11/14 101
, F22B37/52 Z
, F22B37/56 Z
, F22B37/00 A
, C23F11/14
, C23F11/12 102
, C02F1/70 Z
Fターム (14件):
4D050AA08
, 4D050AB32
, 4D050BA12
, 4D050BD04
, 4K062AA03
, 4K062BB07
, 4K062BB12
, 4K062BB15
, 4K062BB18
, 4K062CA04
, 4K062CA05
, 4K062DA01
, 4K062FA06
, 4K062GA01
引用特許:
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