特許

J-GLOBAL ID：201803016678175357

薄膜形成装置および薄膜形成方法

発明者： 小森 常範 ,  藤元 高佳 ,  寺田 豊治
出願人/特許権者： 東レエンジニアリング株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-196322
公開番号（公開出願番号）：特開2018-059144
出願日： 2016年10月04日
公開日（公表日）： 2018年04月12日
要約：

【課題】タクトタイムを短く、かつ全面均一な膜厚で基材上に薄膜を形成することができる薄膜形成装置および薄膜形成方法の提供。【解決手段】一方向に長い成膜手段2と、基材Wを保持する保持面31を有し成膜手段21と対向するように基材Wを保持する保持ステージ3と、成膜動作中、成膜手段21の長手方向と略直交する方向に保持ステージ3を往復動させるステージ往復動手段4と、成膜動作中、保持面31の法線方向を回転軸方向として保持ステージ3を回転させるステージ回転手段5と、を有する薄膜形成装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

一方向に長い成膜手段と、 基材を保持する保持面を有し前記成膜手段と対向するように基材を保持する保持ステージと、 成膜動作中、前記成膜手段の長手方向と略直交する方向に前記保持ステージを往復動させるステージ往復動手段と、 成膜動作中、前記保持面の法線方向を回転軸方向として前記保持ステージを回転させるステージ回転手段と、 を有することを特徴とする、薄膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/42 ,  C23C 16/04

FI (3件)：

C23C16/44 G ,  C23C16/42 ,  C23C16/04

Fターム (18件)：

4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA16 ,  4K030BA35 ,  4K030CA07 ,  4K030EA05 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030GA04 ,  4K030GA06 ,  4K030HA12 ,  4K030JA12 ,  4K030KA12 ,  4K030KA15 ,  4K030KA41 ,  4K030LA16 ,  4K030LA24