特許
J-GLOBAL ID：201803017037584296
プロキシミティ露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人栄光特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-194981
公開番号（公開出願番号）：特開2018-059959
出願日： 2016年09月30日
公開日（公表日）： 2018年04月12日
要約：
【課題】レジストの解像限界以下のレジストパターンの最小ピッチで、生産効率よくマスクのマスクパターンをワークに露光転写可能なプロキシミティ露光方法を提供する。【解決手段】レジストRの解像限界以下である最小ピッチPを有するレジストパターン43に対して、レジストRの解像限界より大きいマスクパターン31が形成されるマスクMを準備し、第1露光工程でマスクパターン31をワークWに露光転写した後、マスクMとワークWとをレジストパターン43のピッチP分だけ相対的にステップ移動させて、第2露光工程でマスクパターン31をワークWに再度露光転写する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
マスクとワークとが所定のギャップを介して対向配置され、パターン露光用の光を前記マスクを介して前記ワークに照射することにより、前記マスクのマスクパターンを前記ワーク上のレジストに露光転写するプロキシミティ露光方法であって、
前記レジストの解像限界以下である最小ピッチを有するレジストパターンに対して、前記レジストの解像限界より大きいピッチで前記マスクパターンが形成される前記マスクを準備するマスク準備工程と、
前記マスクパターンを前記ワークに露光転写する第1露光工程と、
前記マスクと前記ワークとを前記レジストパターンの最小ピッチ分だけ相対的にステップ移動させる移動工程と、
前記移動工程の後に、前記マスクパターンを前記ワークに再度露光転写する第2露光工程と、を備えることを特徴とするプロキシミティ露光方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G03F7/20 501
, G03F7/20 521
2H197AA04
, 2H197AA39
, 2H197AB12
, 2H197CD02
, 2H197CD03
, 2H197CD06
, 2H197CD12
, 2H197CD13
, 2H197CD15
, 2H197CE01
, 2H197CE10
