特許
J-GLOBAL ID:201803017181905129

フォーカスリング、フォーカスリングの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 西澤 和純 ,  佐藤 彰雄 ,  萩原 綾夏
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016074491
公開番号(公開出願番号):WO2017-038555
出願日: 2016年08月23日
公開日(公表日): 2017年03月09日
要約:
本発明は、耐プラズマ性が高いフォーカスリングを提供する。また、耐プラズマ性が高いフォーカスリングを容易に製造可能なフォーカスリングの製造方法を提供する。本発明のフォーカスリングは、炭化ケイ素の焼結体からなるフォーカスリングであって、焼結体は、α-SiC型の結晶構造を有する複数の第1結晶粒と、β-SiC型の結晶構造を有する複数の第2結晶粒と、からなり、第1結晶粒と第2結晶粒との合計に対して、第1結晶粒を70体積%以上含み、第1結晶粒の体積平均結晶子径が、10μm以下である。
請求項(抜粋):
炭化ケイ素の焼結体からなるフォーカスリングであって、 前記焼結体は、 α-SiC型の結晶構造を有する複数の第1結晶粒及びβ-SiC型の結晶構造を有する複数の第2結晶粒を含み、 前記第1結晶粒及び前記第2結晶粒の合計に対して、前記第1結晶粒を70体積%以上含み、 前記第1結晶粒の体積平均結晶子径は10μm以下である、フォーカスリング。
IPC (2件):
H01L 21/306 ,  C04B 35/575
FI (3件):
H01L21/302 101G ,  C04B35/575 ,  H01L21/302 101B
Fターム (12件):
5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004CA04 ,  5F004CA06 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26

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