特許
J-GLOBAL ID:201803017405349995
塗膜式光学積層体及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
フェリシテ特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-197465
公開番号(公開出願番号):特開2018-060064
出願日: 2016年10月05日
公開日(公表日): 2018年04月12日
要約:
【課題】透明性及びヘイズに優れ、面外位相差を制御可能な樹脂組成物が塗布された透明基材からなる塗膜式光学積層体を提供する。【解決手段】塗膜式光学積層体は、透明基材と、透明基材上に塗膜された樹脂組成物と、からなる。樹脂組成物は、少なくとも炭酸ストロンチウム粒子及び樹脂を含む。炭酸ストロンチウム粒子の平均長径が100nm未満である。光学積層体の面外位相差(Rth)が、透明基材単体の面外位相差(Rth)よりも低い。【選択図】なし
請求項(抜粋):
透明基材と、前記透明基材上に塗膜された樹脂組成物と、からなる塗膜式光学積層体であって、
前記樹脂組成物は、少なくとも炭酸ストロンチウム粒子及び樹脂を含み、
前記炭酸ストロンチウム粒子の平均長径が100nm未満であり、
前記光学積層体の面外位相差(Rth)が、前記透明基材単体の面外位相差(Rth)よりも低い、塗膜式光学積層体。
IPC (4件):
G02B 5/30
, G02F 1/133
, B32B 7/02
, B32B 27/00
FI (4件):
G02B5/30
, G02F1/13363
, B32B7/02 103
, B32B27/00 Z
Fターム (43件):
2H149AA02
, 2H149AB04
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149DB26
, 2H149DB38
, 2H149EA06
, 2H149FA02Z
, 2H149FA08Y
, 2H149FA41Y
, 2H149FA52Y
, 2H149FD12
, 2H149FD17
, 2H149FD25
, 2H149FD47
, 2H149FD48
, 2H291FA30X
, 2H291FA30Z
, 2H291FB04
, 2H291FB12
, 2H291FB13
, 2H291FC33
, 4F100AA08B
, 4F100AA08H
, 4F100AG00A
, 4F100AJ06A
, 4F100AK01A
, 4F100AK01B
, 4F100AK25B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100CA18B
, 4F100DE01B
, 4F100DE01H
, 4F100EH462
, 4F100EJ08
, 4F100EJ54
, 4F100EJ86
, 4F100GB41
, 4F100JB12B
, 4F100JN01A
, 4F100JN18
, 4F100YY00B
引用特許:
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