特許
J-GLOBAL ID:201803017927684174
窪んだシェル層を有するヒーター構造物を含むイーベイパー装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件):
田中 伸一郎
, 弟子丸 健
, ▲吉▼田 和彦
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
, 近藤 直樹
, 鈴木 信彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-504776
公開番号(公開出願番号):特表2018-527907
出願日: 2016年07月28日
公開日(公表日): 2018年09月27日
要約:
イーベイパー装置(60)は、プレベイパーセクターと、プレベイパーセクターと熱的接触するように配置されたヒーター構造物(114)と、を含む。プレベイパーセクターは、プレベイパー製剤を保持および分配するように構成される。ヒーター構造物(114)はベースワイヤー(123)と、ベースワイヤー(123)を被覆するシェル層(119)と、を含む。ベースワイヤー(123)はシェル層(119)から絶縁されている。シェル層(119)は、第一の窪んでいない部分(120a)と第二の窪んでいない部分(120b)との間に少なくとも1つの窪んだ部分(122)を含む。少なくとも1つの窪んだ部分(122)は、ベイパーを生成するためにプレベイパー製剤を気化するように構成されるシェル層(119)のより薄いセクションである。【選択図】図1A
請求項(抜粋):
イーベイパー装置であって、
プレベイパー製剤を保持および分配するように構成されるプレベイパーセクターと、
前記プレベイパーセクターと熱的接触するように配置されたヒーター構造物であって、前記ヒーター構造物がベースワイヤーおよび前記ベースワイヤーを被覆するシェル層を含み、前記ベースワイヤーが前記シェル層から絶縁され、前記シェル層が第一の窪んでいない部分と第二の窪んでいない部分との間に少なくとも1つの窪んだ部分を含み、前記少なくとも1つの窪んだ部分がベイパーを生成するために前記プレベイパー製剤を気化するように構成された前記シェル層のより薄いセクションである、ヒーター構造物とを備える、イーベイパー装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (12件):
3K092PP20
, 3K092QB02
, 3K092QB03
, 3K092RA02
, 3K092RD09
, 4B162AA05
, 4B162AA22
, 4B162AB14
, 4B162AC22
, 4B162AC27
, 4B162AD03
, 4B162AD23
引用特許:
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