特許
J-GLOBAL ID：201803018600511906
旋回流発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
一色国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-200837
公開番号（公開出願番号）：特開2018-062885
出願日： 2016年10月12日
公開日（公表日）： 2018年04月19日
要約：
【課題】低抵抗で且つ拡散性に優れた旋回流を発生させることを可能とする。【解決手段】 排ガス浄化装置5の排気管1内のうち還元触媒2の上流側に配置され、排ガスに旋回流を発生させる旋回流発生装置10であって、排気管1内の中央部に配置される中央プレート11と、その側部に配置される側部プレート12,13と、を備えており、排気管1内の中央部を流れる排ガスが、中央プレート11によって上方から下方へと導かれた後、両側部へと分割し、中央プレート11と側部プレート12,13とが交差した領域Kを介して排気管1の内壁に沿って下流側へと流れることで旋回流を発生させると共に、両側部を流れる排ガスが、側部プレート12,13によって下方から上方へと導かれた後、中央部で合流して中央プレート11の平坦面11aに沿って下流側へと流れることで左右対称の旋回流を発生させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
排ガスが流れる排気管と、前記排気管内に設けられ前記排ガスに含まれる窒素酸化物を還元浄化する還元触媒と、前記還元触媒の上流側を流れる前記排ガスに還元剤を噴射供給する還元剤供給手段と、を備える排ガス浄化装置に用いられ、前記排気管内における前記還元触媒の上流側に配置され、前記排ガスに旋回流を発生させる旋回流発生装置であって、
前記排気管内の中央部に配置され、上流側から下流側に向けて下り傾斜して設けられる中央プレートを備え、
前記中央プレートの両側と前記排気管の内面との間に間隔が設けられている
ことを特徴とする旋回流発生装置。
IPC (5件)：
F01N 3/24
, F01N 3/08
, F01N 3/28
, F01N 13/08
, B01D 53/94
F01N3/24 N
, F01N3/08 B
, F01N3/28 301C
, F01N13/08 Z
, B01D53/94
3G004BA06
, 3G004DA01
, 3G004DA22
, 3G004EA00
, 3G091AB05
, 3G091AB15
, 3G091BA01
, 3G091CA17
, 3G091CA27
, 4D148AA06
, 4D148AB02
, 4D148AC04
, 4D148AC09
, 4D148CC23
, 4D148CC61
