特許

J-GLOBAL ID：201803019023506414

エタノール製造由来の可食残留物の製造法

発明者： メドフ マーシャル
出願人/特許権者： キシレコ インコーポレイテッド
代理人 (11件)： 清水 初志 ,  春名 雅夫 ,  山口 裕孝 ,  刑部 俊 ,  井上 隆一 ,  佐藤 利光 ,  新見 浩一 ,  小林 智彦 ,  大関 雅人 ,  五十嵐 義弘 ,  川本 和弥
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-138140
公開番号（公開出願番号）：特開2018-165274
出願日： 2018年07月24日
公開日（公表日）： 2018年10月25日
要約：

【課題】エタノール製造の可食残留物、例えば、可溶性物質添加蒸留穀物残渣など、を、抗生物質の残量が少ないかまたは実質的に不含において製造する。【解決手段】エタノール製造の結果として生じる可食残留物中に存在する抗生物質または細菌を、当該可食残留物に放射線を照射することによって不活性化する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

(a)セルロース分解酵素を用いてセルロース系供給原料および/またはリグノセルロース系供給原料を含む供給原料をバイオ処理する工程であって、該バイオ処理する工程が糖および副産物である可食残留物を産生し、かつ該可食残留物が、リグニン、キシロース、および鉱物を含む工程; (b)該可食残留物を電子線照射で放射線照射する工程であって、放射線照射前に該可食残留物が抗生物質を含有しており、かつ該抗生物質を不活性化または破壊するように選択された条件下において放射線照射が実施される、工程を含む、活性な抗生物質含有量の低い可食残留物を製造する方法。

IPC (9件)：

C07G 99/00 ,  C07G 11/00 ,  C07G 1/00 ,  C12P 19/02 ,  A23K 10/12 ,  A23K 10/14 ,  A23K 20/111 ,  A23K 20/163 ,  A23K 20/20

FI (9件)：

C07G99/00 C ,  C07G11/00 Z ,  C07G1/00 ,  C12P19/02 ,  A23K10/12 ,  A23K10/14 ,  A23K20/111 ,  A23K20/163 ,  A23K20/20

Fターム (23件)：

2B150AA01 ,  2B150AB20 ,  2B150DA08 ,  2B150DC13 ,  2B150DC14 ,  2B150DF11 ,  2B150DH15 ,  2B150DH20 ,  4B064AC03 ,  4B064AF02 ,  4B064CA21 ,  4B064CB07 ,  4B064CC15 ,  4B064CC30 ,  4B064DA10 ,  4B064DA16 ,  4H055AA02 ,  4H055AA05 ,  4H055AB10 ,  4H055AC50 ,  4H055AD10 ,  4H055AD11 ,  4H055CA60