特許
J-GLOBAL ID：201803019035523985
ニッケル粉末の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小池 晃
, 河野 貴明
, 村上 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-025007
公開番号（公開出願番号）：特開2018-141233
出願日： 2018年02月15日
公開日（公表日）： 2018年09月13日
要約：
【課題】湿式法を用いた場合であっても、安価で、かつ高性能なニッケル粉末を得ることができるニッケル粉末の製造方法の提供。【解決手段】少なくとも水溶性ニッケル塩、ニッケルよりも貴な金属の塩、還元剤、水酸化アルカリ、アミン化合物、および硫黄含有化合物と水とを含む反応液中において、還元反応によりニッケル晶析粉を得る晶析工程を有するニッケル粉末の製造方法であって、前記晶析工程で混合させる前記還元剤はヒドラジンであり、前記アミン化合物は、ヒドラジンの自己分解抑制剤であって、前記反応液中のニッケルのモル数に対する前記アミン化合物のモル数の割合が0.01モル%〜5モル%の範囲であり、前記硫黄含有化合物は、ヒドラジンの自己分解抑制補助剤であって、前記反応液中のニッケルのモル数に対する前記硫黄含有化合物のモル数の割合が0.01モル%〜5モル%の範囲であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも水溶性ニッケル塩、ニッケルよりも貴な金属の塩、還元剤、水酸化アルカリ、アミン化合物、および硫黄含有化合物と、水と、を混合した反応液中において、還元反応によりニッケル晶析粉を得る晶析工程を有するニッケル粉末の製造方法であって、
前記晶析工程で混合させる前記還元剤はヒドラジン(N2H4)であり、
前記アミン化合物は、ヒドラジンの自己分解抑制剤であって、分子内に第1級アミノ基(-NH2)を2個以上含有するか、分子内に第1級アミノ基(-NH2)を1個、かつ第2級アミノ基(-NH-)を1個以上含有するか、あるいは、分子内に第2級アミノ基(-NH-)を2個以上含有しており、
前記反応液中のニッケルのモル数に対する前記アミン化合物のモル数の割合が0.01モル%〜5モル%の範囲であり、
前記硫黄含有化合物は、ヒドラジンの自己分解抑制補助剤であって、分子内にスルホニル基(-S(=O)2-)、スルホン酸基(-S(=O)2-O-)、チオケトン基(-C(=S)-)のいずれかを少なくとも1個以上含有しており、
前記反応液中のニッケルのモル数に対する前記硫黄含有化合物のモル数の割合が0.01モル%〜5モル%の範囲であることを特徴とするニッケル粉末の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
4K017AA03
, 4K017AA08
, 4K017BA03
, 4K017CA07
, 4K017DA01
, 4K017DA07
, 4K017EJ01
, 4K017FB03
, 4K017FB07
