特許
J-GLOBAL ID:201803019106774712

配線構造体とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 机 昌彦 ,  下坂 直樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-182514
公開番号(公開出願番号):特開2018-049854
出願日: 2016年09月20日
公開日(公表日): 2018年03月29日
要約:
【課題】配線を配置する自由度が高く、配線抵抗の増大を抑制することのできる3次元配線構造体を提供する。【解決手段】本発明の配線構造体は、絶縁性を有する第1の材料が開口部を有して積層され、前記開口部は上下に隣接する層の開口部と平面視で共通部分を有する積層部と、前記開口部を貫通し、貫通した端の前記開口部で先端が露出している導電性の一体構造を有する配線部と、を有する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
絶縁性を有する第1の材料が開口部を有して積層され、前記開口部は上下に隣接する層の開口部と平面視で共通部分を有する積層部と、 前記開口部を貫通し、貫通した端の前記開口部で先端が露出している導電性の一体構造を有する配線部と、を有する配線構造体。
IPC (6件):
H05K 1/11 ,  B29C 67/00 ,  B33Y 80/00 ,  B33Y 10/00 ,  H05K 3/40 ,  H05K 3/46
FI (6件):
H05K1/11 N ,  B29C67/00 ,  B33Y80/00 ,  B33Y10/00 ,  H05K3/40 K ,  H05K3/46 N
Fターム (35件):
4F213AA04 ,  4F213AA13 ,  4F213AA24 ,  4F213AA28 ,  4F213AA29 ,  4F213AA39 ,  4F213AG03 ,  4F213AG28 ,  4F213AH36 ,  4F213WA25 ,  4F213WB01 ,  4F213WL02 ,  4F213WL24 ,  4F213WL25 ,  4F213WL67 ,  4F213WL74 ,  4F213WL96 ,  5E316AA43 ,  5E316BB11 ,  5E316BB16 ,  5E316FF45 ,  5E316JJ12 ,  5E316JJ13 ,  5E317AA24 ,  5E317BB02 ,  5E317BB03 ,  5E317BB12 ,  5E317BB14 ,  5E317CC08 ,  5E317CC17 ,  5E317CC25 ,  5E317CD27 ,  5E317CD32 ,  5E317CD34 ,  5E317GG11
引用特許:
審査官引用 (5件)
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