特許

J-GLOBAL ID：201803019133416470

反応生成物の製法

発明者： 丹羽 孝介 ,  近藤 良夫 ,  磯部 宏晃 ,  青木 道郎
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2017-216578
公開番号（公開出願番号）：特開2018-041743
出願日： 2017年11月09日
公開日（公表日）： 2018年03月15日
要約：

【課題】出発原料から所定の有機合成反応を経て反応生成物を得る反応生成物の製法を提供する。【解決手段】(a)出発原料の赤外吸収スペクトルにおいて有機合成反応に関与する反応部位のピーク波長を目的波長に設定する工程と、(b)外から内に向かって金属パターンと誘電体層と金属基板とがこの順に積層された構造体から目的波長にピークを持つ赤外線を放射する赤外線ヒーター10を準備する工程と、(c)目的波長にピークを持つ赤外線を赤外線ヒーター10から前記出発原料に照射しながら有機合成反応を進行させることにより反応生成物を得る工程と、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

出発原料から所定の有機合成反応を経て反応生成物を得る反応生成物の製法であって、(a)前記出発原料の赤外吸収スペクトルにおいて前記有機合成反応に関与する反応部位のピーク波長を目的波長に設定する工程と、 (b)外から内に向かって金属パターンと誘電体層と金属基板とがこの順に積層された構造体から前記目的波長にピークを持つ赤外線を放射する赤外線ヒーターを準備する工程と、 (c)前記目的波長にピークを持つ赤外線を前記赤外線ヒーターから前記出発原料に照射しながら前記有機合成反応を進行させることにより前記反応生成物を得る工程と、 を含む反応生成物の製法。

IPC (1件)：

H05B 3/10

FI (1件)：

H05B3/10 B

Fターム (4件)：

3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB80 ,  3K092VV40

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 赤外線ヒーター
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-076814   出願人：日本碍子株式会社
• 赤外線光源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-030132   出願人：アルプス電気株式会社