特許

J-GLOBAL ID：201803019278484066

還元水の製造装置および還元水の製造方法

発明者： 澄田 修生
出願人/特許権者： 中本 義範
代理人 (4件)： 水野 勝文 ,  井出 真 ,  須澤 洋 ,  久松 洋輔
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016083245
公開番号（公開出願番号）：WO2017-090431
出願日： 2016年11月09日
公開日（公表日）： 2017年06月01日
要約：

【課題】電解還元により得られる還元水において溶存水素分子濃度の低下を抑えることができる新規な技術を提供する。【解決手段】 アノード室と、カソード室と、アノード室とカソード室との間に配置されるフッ素系イオン交換膜である隔膜と、アノード室において隔膜に接するように配置される多孔性アノード極と、カソード室に配置されるカソード極とを備える電解槽内の隔膜とカソード極との間に水を供給し、カソード極に対し、10kHz以下の電流平均値がゼロ以上である交流成分を有する電流を付与して水の電解還元を行い水素を発生させること、およびカソード極に対し直流成分を有する電流を付与して水の電解還元を行い水素を発生させるとともに、カソード極の表面に30kHz以上10MHz以下の超音波領域にある機械的振動を付与することのうち少なくともいずれかを行うことを含む、水素を含有する還元水の製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

アノード室と、カソード室と、前記アノード室と前記カソード室との間に配置されるフッ素系イオン交換膜である隔膜と、前記アノード室において前記隔膜に接するように配置される多孔性アノード極と、前記カソード室に配置されるカソード極とを備える電解槽と、 前記カソード極に対し、10kHz以下の電流平均値がゼロ以上である交流成分を有する電流を付与して前記隔膜と前記カソード極との間に供給された水の電解還元を行い水素を発生させること、および前記カソード極に対し直流成分を有する電流を付与して前記隔膜と前記カソード極との間に供給された水の電解還元を行い水素を発生させるとともに、前記カソード極の表面に30kHz以上10MHz以下の超音波領域にある機械的振動を付与することのうち少なくともいずれかを実行する濃度低下抑制部とを備える還元水製造装置。

IPC (1件)：

C02F 1/46

FI (1件)：

C02F1/46 A

Fターム (18件)：

4D061DA03 ,  4D061DB07 ,  4D061DB08 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB06 ,  4D061EB13 ,  4D061EB16 ,  4D061EB17 ,  4D061EB30 ,  4D061EB35 ,  4D061EB39 ,  4D061EB40 ,  4D061ED15 ,  4D061ED20 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061GC12