特許

J-GLOBAL ID：201803019581083449

不活性ガスの置換方法、及び不活性ガスの置換方法を用いたセラミック構造体の製造方法

発明者： 井原 爾史 ,  五島 隆 ,  亀井 良之
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (2件)： 渡邉 一平 ,  小池 成
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016084943
公開番号（公開出願番号）：WO2017-090718
出願日： 2016年11月25日
公開日（公表日）： 2017年06月01日
要約：

不活性ガスの置換方法1は、ハニカム成形体をガス置換室3aの室内空間7aに収容し、外部との気密性を保った状態で閉鎖する閉鎖工程S1と、室内空間7aを予め設定された第一真空圧まで減圧する減圧工程S2と、減圧された室内空間7aにアルゴンガス10を導入し、第一真空圧より真空圧が高く、かつ大気圧より真空圧が低い第二真空圧まで室内空間7aを増圧する増圧工程S3と、増圧された室内空間7aを第一真空圧まで再減圧する再減圧工程S4と、増圧工程S3及び再減圧工程S4を少なくとも二回繰り返した後、第一真空圧まで再減圧された室内空間7aにアルゴンガス10を導入し、大気圧まで室内空間7aを復圧する復圧工程とを具備する。

請求項（抜粋）：

セラミック体を閉鎖空間に収容し、前記閉鎖空間を外部との気密性を保った状態で閉鎖する閉鎖工程と、 前記閉鎖空間を予め設定された第一真空圧まで減圧する減圧工程と、 減圧された前記閉鎖空間に不活性ガスを導入し、前記第一真空圧より高く、かつ大気圧より低い第二真空圧まで前記閉鎖空間を増圧する増圧工程と、 増圧された前記閉鎖空間を前記第一真空圧まで再減圧する再減圧工程と、 前記増圧工程及び前記再減圧工程を少なくとも二回繰り返した後、前記第一真空圧まで再減圧された前記閉鎖空間に前記不活性ガスを導入し、大気圧まで前記閉鎖空間を復圧する復圧工程と を具備する不活性ガスの置換方法。

IPC (6件)：

C04B 35/64 ,  C04B 35/565 ,  F27D 7/06 ,  F27B 9/04 ,  F27B 9/40 ,  F27D 19/00

FI (6件)：

C04B35/64 ,  C04B35/565 ,  F27D7/06 B ,  F27B9/04 ,  F27B9/40 ,  F27D19/00 D

Fターム (22件)：

4K050AA04 ,  4K050BA07 ,  4K050CC07 ,  4K050CC10 ,  4K050EA04 ,  4K050EA08 ,  4K056AA11 ,  4K056BA02 ,  4K056BA04 ,  4K056CA10 ,  4K056FA01 ,  4K056FA11 ,  4K063AA06 ,  4K063AA16 ,  4K063BA04 ,  4K063CA06 ,  4K063DA05 ,  4K063DA19 ,  4K063DA20 ,  4K063DA22 ,  4K063DA33 ,  4K063DA34