特許

J-GLOBAL ID：201803019701222430

凸版反転オフセット印刷機および印刷物の製造方法

発明者： 横尾 正浩
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-197133
公開番号（公開出願番号）：特開2018-058265
出願日： 2016年10月05日
公開日（公表日）： 2018年04月12日
要約：

【課題】印刷中におけるインキ膜形成基材の剥離帯電による異物の付着が起こらない凸版反転オフセット印刷用部材とその製造方法およびその部材を使用した凸版反転オフセット印刷装置による高精細かつ異物由来のパターン欠陥が抑制された印刷物の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】版胴47に巻き付けられたインキ膜形成基材42上に、インキ膜43を形成する手段と、インキ膜形成基材からインキ膜の不要部を除去する除去手段と、インキ膜形成基材上に残ったインキ膜の要部を被印刷基板45に転写する転写手段と、を備えた凸版反転オフセット印刷機において、版胴とインキ膜形成基材の間には導電性のクッション層40が介在していることを特徴とする凸版反転オフセット印刷機。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

版胴に巻き付けられたインキ膜形成基材上に、インキ膜を形成する手段と、 インキ膜形成基材からインキ膜の不要部を除去する除去手段と、 インキ膜形成基材上に残ったインキ膜の要部を被印刷基板に転写する転写手段と、を備えた凸版反転オフセット印刷機において、 版胴とインキ膜形成基材の間には導電性のクッション層が介在していることを特徴とする凸版反転オフセット印刷機。

IPC (5件)：

B41F 3/00 ,  B41M 1/02 ,  B41F 17/14 ,  B41N 10/00 ,  H05K 3/12

FI (5件)：

B41F3/00 Z ,  B41M1/02 ,  B41F17/14 E ,  B41N10/00 ,  H05K3/12 630Z

Fターム (13件)：

2H113BA01 ,  2H113BB07 ,  2H113BB09 ,  2H113BB22 ,  2H113BB26 ,  2H113BC12 ,  2H113DA04 ,  2H113DA46 ,  2H114CA01 ,  5E343BB72 ,  5E343DD02 ,  5E343FF02 ,  5E343GG20