特許
J-GLOBAL ID:201803019728632788

研磨装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 家入 健
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-202608
公開番号(公開出願番号):特開2018-062698
出願日: 2016年10月14日
公開日(公表日): 2018年04月19日
要約:
【課題】金属の研磨を行う際の加工時間を短縮すること。【解決手段】研磨装置は、導電性のワークピース11に、電解液が内部に充填された電解液用ノズル12を接触させ、電解液用ノズル12内の電解液を介してワークピース11に電流を流すことで、ワークピース11を研磨する。電解液用ノズル12は、ワークピース11と接触し電解研磨を行う研磨部21と、研磨部21に電解液を供給する供給部22と、研磨部21から電解液を排出する排出部23と、を備え、研磨部21では、供給部22から供給された電解液を旋回させ、排出部23から電解液を排出する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
導電性のワークピースに、電解液が内部に充填された電解液用ノズルを接触させ、前記電解液用ノズル内の電解液を介して前記ワークピースに電流を流すことで、前記ワークピースを研磨する研磨装置であって、 前記電解液用ノズルは、 前記ワークピースと接触し電解研磨を行う研磨部と、 前記研磨部に前記電解液を供給する供給部と、 前記研磨部から前記電解液を排出する排出部と、を備え、 前記研磨部では、前記供給部から供給された前記電解液を旋回させ、前記排出部から前記電解液を排出する 研磨装置。
IPC (1件):
C25F 7/00
FI (1件):
C25F7/00 M
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • 特開昭53-039936
  • 特公昭50-007540
  • 特開昭52-086934
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