特許
J-GLOBAL ID:201803020054951600
研磨用組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
上羽 秀敏
, 小宮山 聰
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2016081307
公開番号(公開出願番号):WO2017-069253
出願日: 2016年10月21日
公開日(公表日): 2017年04月27日
要約:
表面欠陥の抑制及びヘイズの低減を実現可能な研磨用組成物を提供する。研磨用組成物は、砥粒と、1,2-ジオール構造単位を有するビニルアルコール系樹脂から選ばれた少なくとも一種類の水溶性高分子と、多価アルコールと、アルカリ化合物と、を含む。研磨用組成物は、好ましくは、さらに、非イオン性界面活性剤を含む。
請求項(抜粋):
砥粒と、
下記式(1)で表される1,2-ジオール構造単位を有するビニルアルコール系樹脂から選ばれた少なくとも一種類の水溶性高分子と、
多価アルコールと、
アルカリ化合物と、
を含む、研磨用組成物。
IPC (3件):
H01L 21/304
, C09K 3/14
, B24B 37/00
FI (4件):
H01L21/304 622D
, C09K3/14 550Z
, C09K3/14 550H
, B24B37/00 H
Fターム (22件):
3C158AA07
, 3C158CA04
, 3C158CB01
, 3C158DA02
, 3C158DA12
, 3C158DA17
, 3C158EA11
, 3C158EB01
, 3C158ED10
, 3C158ED11
, 3C158ED12
, 3C158ED21
, 3C158ED26
, 5F057AA03
, 5F057AA28
, 5F057BA12
, 5F057BB03
, 5F057DA03
, 5F057EA01
, 5F057EA21
, 5F057EA27
, 5F057EA30
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