特許
J-GLOBAL ID：201803020135772549

薄膜形成用ジルコニアスラリー及びその製造方法

発明者：
山下 弘樹

山下 弘樹 について

, 
大神 剛章

大神 剛章 について


出願人/特許権者：
太平洋セメント株式会社

太平洋セメント株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人アルガ特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-044274
公開番号（公開出願番号）：特開2018-154550
出願日： 2018年03月12日
公開日（公表日）： 2018年10月04日
要約：
【課題】優れた光透過性を有する薄膜を形成することのできる、酸化ジルコニウムを用いた薄膜形成用ジルコニアスラリー及びその製造方法を提供する。【解決手段】次の成分(X)〜(Y): (X)平均繊維径が50nm以下であるセルロースナノファイバーに、平均粒子径が0.1nm〜40nmである複数のジルコニアナノ粒子が、直線的に連続して担持してなるジルコニアナノ粒子集合体、 (Y)分散媒を含有する薄膜形成用ジルコニアスラリー。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
次の成分(X)〜(Y): (X)平均繊維径が50nm以下であるセルロースナノファイバーに、平均粒子径が0.1nm〜40nmである複数のジルコニアナノ粒子が、直線的に連続して担持してなるジルコニアナノ粒子集合体、 (Y)分散媒 を含有する薄膜形成用ジルコニアスラリー。
IPC (4件)：
C01G 25/02 ,  C08L 1/00 ,  C08K 7/02 ,  C08K 3/08
FI (4件)：
C01G25/02 ,  C08L1/00 ,  C08K7/02 ,  C08K3/08
Fターム (19件)：
4G048AA02 ,  4G048AB02 ,  4G048AB03 ,  4G048AC08 ,  4G048AD02 ,  4G048AD10 ,  4G048AE07 ,  4G048AE08 ,  4J002AB011 ,  4J002DA116 ,  4J002DD026 ,  4J002DE096 ,  4J002DE246 ,  4J002DF036 ,  4J002DG046 ,  4J002EG046 ,  4J002FA041 ,  4J002FD206 ,  4J002HA07
引用特許：
審査官引用 (3件)

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