反射防止膜付基材の製造方法および光電気セル

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人SSINPAT
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-143396
公開番号（公開出願番号）：特開2014-006443
特許番号：特許第6317874号
出願日： 2012年06月26日
公開日（公表日）： 2014年01月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基材上に形成された高屈折率層と、該高屈折率層上に形成された低屈折率層とからなる反射防止膜付基材の製造方法であって、 (a)基材上に、塩基性窒素化合物を1〜1000ppm含む、屈折率が1.50〜2.40の金属酸化物粒子の分散液を塗布する工程、 (b)前記塩基性窒素化合物の沸点未満、且つ50〜120°Cの温度で前記分散液の分散媒を除去する工程、 (c)低屈折率層形成成分分散液を塗布する工程、 (d)前記低屈折率層形成成分分散液の分散媒を除去する工程 (e)前記基材を300〜650°Cで加熱する工程、を順に備える反射防止膜付基材の製造方法。

IPC (2件)：