特許
J-GLOBAL ID：201803020532150139

LPP EUV光源におけるソースレーザの発射を制御するためのシステム及び方法

発明者：
ラファック,ロバート,ジェイ

ラファック,ロバート,ジェイ について

, 
リッグス,ダニエル ジェイソン

リッグス,ダニエル ジェイソン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-502640
公開番号（公開出願番号）：特表2018-525666
出願日： 2016年08月05日
公開日（公表日）： 2018年09月06日
要約：
レーザ生成プラズマ(LPP)極端紫外線(EUV)生成システムにおいて、ソースレーザのタイミングを改善する方法及びシステムが開示される。プラズマチャンバ内の力に起因して、液滴が照射部位に近づくと液滴の速度が低下する可能性がある。液滴の速度が低下するため、速度低下した液滴に対するソースレーザの発射が早くなり、その結果、液滴の前方部しか照射されない。結果として生じる液滴から生成されるEUVエネルギーの量は、低下した液滴の速度に比例する。補正するために、次の液滴に対するソースレーザの発射は、生成されたEUVエネルギーに基づいて遅延される。次の液滴に対するソースレーザの発射が遅延されるため、次の液滴は適切な位置でより完全に照射される可能性が高くなり、結果として次の液滴から生成されるEUVエネルギーが多くなる。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
一連の液滴を放出する液滴発生器を有する極端紫外線(EUV)レーザ生成プラズマ(LPP)光源において、照射部位に向けてパルスを発射するソースレーザの発射タイミングを修正する方法であって、 前記一連の液滴の第1の液滴と衝突した前記パルスの第1のパルスから生成される第1のEUVエネルギー量を求めることと、 検出した前記第1のEUVエネルギー量から、前記照射部位に到達する前記一連の液滴の第2の液滴の予想遅延を決定することと、 前記第2の液滴が前記照射部位に到達するときに前記第2の液滴を照射するように、前記第2の液滴の前記予想遅延に基づいて、前記パルスの第2のパルスについての前記ソースレーザの発射タイミングを修正することと、 を含む、方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20 ,  H05G 2/00 ,  H05H 1/24
FI (4件)：
G03F7/20 503 ,  H05G2/00 K ,  G03F7/20 521 ,  H05H1/24
Fターム (21件)：
2G084AA11 ,  2G084BB01 ,  2G084CC27 ,  2G084HH20 ,  2G084HH32 ,  2G084HH42 ,  2H197CA10 ,  2H197DB05 ,  2H197DC02 ,  2H197DC12 ,  2H197GA01 ,  2H197GA04 ,  2H197GA05 ,  2H197GA12 ,  2H197GA24 ,  2H197HA03 ,  4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB15 ,  4C092AB21 ,  4C092AC09
引用特許：
審査官引用 (4件)
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