特許

J-GLOBAL ID：201803020787555698

酸化ニッケルの製造方法、流動焙焼炉

発明者： 井関 隆士 ,  合田 幸弘
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (2件)： 正林 真之 ,  林 一好
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-147715
公開番号（公開出願番号）：特開2018-016516
出願日： 2016年07月27日
公開日（公表日）： 2018年02月01日
要約：

【課題】水酸化ニッケルを焙焼して酸化ニッケルを製造するにあたり、流動焙焼炉を用いて焙焼することによって、硫黄分等の不純物の含有量が少ない、高品質の酸化ニッケルを効率よく製造することができる方法を提供する。【解決手段】本発明に係る酸化ニッケルの製造方法は、炉本体の下方に形成される固定層と、前記固定層の上に形成される流動媒体層とを備えた流動焙焼炉を用いて水酸化ニッケルを焙焼し、酸化ニッケルを製造する酸化ニッケルの製造方法であって、前記流動焙焼炉の固定層から流動媒体層に向けてガスを供給し、かつ前記流動焙焼炉の他の方向から前記流動媒体層にガスを供給しながら、前記水酸化ニッケルを焙焼する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

炉本体の下方に形成される固定層と、前記固定層の上に形成される流動媒体層とを備えた流動焙焼炉を用いて水酸化ニッケルを焙焼し、酸化ニッケルを製造する酸化ニッケルの製造方法であって、 前記流動焙焼炉の固定層から流動媒体層に向けてガスを供給し、かつ前記流動焙焼炉の他の方向から前記流動媒体層にガスを供給しながら、前記水酸化ニッケルを焙焼する 酸化ニッケルの製造方法。

IPC (2件)：

C01G 53/04 ,  B01J 8/24

FI (2件)：

C01G53/04 ,  B01J8/24 311

Fターム (11件)：

4G048AA02 ,  4G048AB01 ,  4G048AC06 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  4G070AA01 ,  4G070AB06 ,  4G070BB32 ,  4G070CB18 ,  4G070CC06 ,  4G070DA21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 低品位ニッケル酸化鉱石からのフェロニッケル製錬原料の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-169845   出願人：住友金属鉱山株式会社
• 特開昭53-037581