特許

J-GLOBAL ID：201803021031756408

イオン交換膜及び電解槽

発明者： 大橋 龍二 ,  亀山 弘之 ,  森川 卓也
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-126861
公開番号（公開出願番号）：特開2018-145529
出願日： 2018年07月03日
公開日（公表日）： 2018年09月20日
要約：

【課題】高い機械強度を保持しながら、自然循環型ゼロギャップ電解槽を用いた塩化アルカリ電解での電解電圧を低減させたイオン交換膜を提供する。【解決手段】 本発明に係るイオン交換膜は、スルホン酸基を有する含フッ素重合体を含む層Sと、カルボン酸基を有する含フッ素重合体を含む層Cと、前記層Sの内部に配置され、かつ、強化糸及び犠牲糸の少なくとも一方として機能する、複数の補強材と、を有するイオン交換膜であって、前記イオン交換膜を上面視したとき、前記補強材が存在しない領域の、純水中での膜断面平均厚さをAとし、前記強化糸同士が交差する領域及び前記強化糸と前記犠牲糸が交差する領域の、純水中での膜断面平均厚さをBとした場合に、前記A及びBが式(1)及び(2)を満たす。 B≦240μm・・・(1) 2.0≦B/A≦5.0・・・(2)【選択図】図1

請求項（抜粋）：

スルホン酸基を有する含フッ素重合体を含む層Sと、 カルボン酸基を有する含フッ素重合体を含む層Cと、 前記層Sの内部に配置され、かつ、強化糸及び犠牲糸の少なくとも一方として機能する、複数の補強材と、 を有するイオン交換膜であって、 前記イオン交換膜を上面視したとき、前記補強材が存在しない領域の、純水中での膜断面平均厚さをAとし、前記強化糸同士が交差する領域及び前記強化糸と前記犠牲糸が交差する領域の、純水中での膜断面平均厚さをBとした場合に、前記A及びBが式(1)及び(2)を満たす、イオン交換膜の製造方法。 B≦240μm・・・(1) 2.0≦B/A≦5.0・・・(2)

IPC (2件)：

C25B 13/08 ,  C25B 1/46

FI (2件)：

C25B13/08 303 ,  C25B1/46

Fターム (5件)：

4K021AA03 ,  4K021AB01 ,  4K021BA03 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 電解用フッ素系陽イオン交換膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-198656   出願人：旭化成ケミカルズ株式会社
• 特開平3-158486
  
• 特開昭61-007338
  
• 特開昭63-317534