研究者
J-GLOBAL ID:201901001118091959   更新日: 2020年05月16日

モハメッド シュルズ ミヤ

モハメッド シュルズ ミヤ | Mian Md. Suruz
所属機関・部署:
職名: 助教
研究分野 (3件): ナノ材料科学 ,  プラズマ科学 ,  薄膜、表面界面物性
研究キーワード (2件): スパッタ技術 ,  機能性酸化物
論文 (8件):
  • 沖村 邦雄, 青戸 智寛, 戸部 龍太, モハメッド シュルズ ミヤ. バナジウム酸化物薄膜の絶縁体-金属転移に基づく自励発振現象. 日本表面真空学会. 2019. 62. 6. 332-337
  • 青戸 智寛, 佐藤 賢太, モハメッド シュルズ ミヤ, 沖村 邦雄. Impact of (111)-oriented TiN conductive layers for the growth of vanadium dioxide films and the effect of grain boundary diffusions. Journal of Alloys and Compounds. 2018. 748. 87-92
  • 佐藤 賢太, 星野 寛明, モハメッド シュルズ ミヤ, 沖村 邦雄. Low-temperature growth of VO2 films on transparent ZnO/glass and Al-doped ZnO/glass and their optical transition properties. Thin Solid Films. 2018. 651. 91-96
  • モハメッド シュルズ ミヤ, 沖村 邦雄, 神崎 昌夫. Comparative study of TiN and TiN/Ti as bottom electrodes for layered type devices with phase transition VO2 films. Thin Solid Films. 2017. 636. 63-69
  • モハメッド シュルズ ミヤ, 沖村 邦雄. Self-oscillation up to 9 MHz Based on Voltage Triggered Switching in VO2/TiN Point Contact Junctions. Journal of Applied Physics. 2015. 117. 215305-1-215305-5
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講演・口頭発表等 (8件):
  • Dependence of out-of-plane insulator-metal transition characteristics of VO2 films on bottom electrode in layered structure device
    (7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, 8th International Conference on Plasma -Nano Technology & Science (IS Plasma-IC Plants 2015) 2015)
  • Growth of VO2 films on TiN conductive layer with out-of-plane insulator-metal transition by ICP- assisted sputtering method
    (International Union of Materials Research Societies - International Conference on Electronic Materials 2014 (IUMRS-ICEM-2014) 2014)
  • Characterization of insulator-metal transition of vanadium dioxide Films Grown on titanium and titanium nitride layers
    (6th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials- 7th International Conference on Plasma -Nano Technology & Science (IS Plasma-2014/IC Plants-2014) 2014)
  • Layered growth of vanadium dioxide films on Ti/Si by inductively Coupled plasma assisted sputtering method and out-of-plane electrical Switching characteristics
    (The 12th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP-2013) 2013)
  • Electrical properties of vanadium dioxide thin films on silicon substrate with metal-insulator transition
    (MJJIT-JUC Joint Symposium 2012 (MJJS2012) 2012)
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学歴 (3件):
  • 2013 - 2016 東海大学 総合理工学研究科 総合理工学専攻
  • 2011 - 2013 東海大学 工学研究科 電気電子システム工学専攻
  • 2007 - 2011 東海大学 情報理工学部 情報通信電子工学科
学位 (1件):
  • 博士 (工学) (東海大学)
経歴 (3件):
  • 2019/09 - 現在 成蹊大学 助教
  • 2017/04 - 現在 東海大学 非常勤講師
  • 2016/11 - 2019/09 東海大学 特定研究員
受賞 (6件):
  • 2017/07 - ISSP 2017 ベストポスター賞 Growth of VO2 thin films on transparent conductive Al-doped ZnO films on glass substrates
  • 2017/03 - 日本応用物理学会 ベストポスター賞 Multi step oscillations in VO2/TIN/Ti/Si layered structure device
  • 2015/10 - IUMRS-ICAM 2015 ベストポスター賞 Voltage induced electrical oscillation in VO2-based layered structure device
  • 2015/07 - ISSP 2015 ベストポスター賞 High frequency self-oscillations in VO2 based out-of-plane device structure
  • 2015/03 - IS Plasma- IC Plants 2015 ベストポスタープレゼンテーション賞 Dependence of out-of-plane insulator-metal transition characteristics of VO2 films on bottom electrode in layered structure device
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所属学会 (2件):
日本表面真空学会 ,  応用物理学会
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