研究者
J-GLOBAL ID:201901003265981016   更新日: 2024年11月19日

榊田 創

サカキタ ハジメ | SAKAKITA HAJIME
所属機関・部署:
研究分野 (1件): 反応工学、プロセスシステム工学
競争的資金等の研究課題 (10件):
  • 2021 - 2024 低温大気圧プラズマ照射による溶液中帯電粒子の輸送制御
  • 2020 - 2023 中性子捕捉療法用低毒性ボロン製剤の生成に関する研究
  • 2016 - 2018 電子励起高密度ラジカル供給による単結晶ダイヤモンドの高効率エピタキシャル成長法
  • 2012 - 2017 医療用マイルドプラズマによる創傷治癒の確立とプラズマー組織細胞交互作用の解明
  • 2013 - 2016 中性子線補足療法のための革新的ナノ粒子剤に関する研究
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論文 (134件):
  • Tetsuji Shimizu, Takahiro Fukui, Hajime Sakakita. Albumin aggregation using low-temperature atmospheric pressure helium plasma jet in argon and air atmosphere. Japanese Journal of Applied Physics. 2022. 61. SI. SI1016-SI1016
  • Hajime Sakakita, Naoto Kumagai, Tetsuji Shimizu, Jaeho Kim, Hisashi Yamada, Xue-lun Wang. Ammonia-free epitaxy of single-crystal InN using a plasma-integrated gas-injection module. Applied Materials Today. 2022. 27. 101489-101489
  • Tetsuji Shimizu, Kazuya Kikunaga, Susumu Kato, Hajime Sakakita. Potential formation on floating metal plate treated by low-temperature atmospheric pressure plasma jet. Journal of Electrostatics. 2022. 117. 103715-103715
  • Chen G, Tsuji T, Yamada M, He J, Shimizu Y, Sakakita H, Hata K, Futaba D, Sakurai S. Multi-step chemical vapor synthesis reactor based on a microplasma for structure-controlled synthesis of single-walled carbon nanotubes. Chemical Engineering Journal. 2022. 444. 136634
  • Kumagai N, Itagaki H, Kim J, Hirose S, Sakakita H, Wang X-L. Comprehensive characterization of low-damaged GaN surface exposed to NH3 plasma toward plasma-induced metalorganic chemical vapor deposition. Applied Surface Science. 2022. 591. 153150-1-153150-11
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MISC (114件):
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学位 (1件):
  • 博士(工学) (名古屋大学)
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