研究者
J-GLOBAL ID:201901006732883693   更新日: 2024年04月01日

田中 一

タナカ ハジメ | Tanaka Hajime
所属機関・部署:
職名: 助教
研究分野 (1件): 電気電子材料工学
研究キーワード (3件): シミュレーション ,  キャリア輸送 ,  半導体
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 2024 - 2029 SiC MOS反転層における電子輸送機構の原子論と量子論に基づく解明
  • 2021 - 2026 ロバストエレクトロニクスを目指したSiC半導体の学理深化
  • 2021 - 2024 ワイドギャップ半導体における衝突イオン化現象の理論研究
  • 2021 - 2022 ワイドギャップ半導体での高電界キャリア輸送に関する理論解析
  • 2020 - 2021 低損失パワーデバイスに向けたSiC MOS界面における電子輸送の理論研究
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論文 (39件):
  • Hajime Tanaka, Tsunenobu Kimoto, Nobuya Mori. Theoretical study on high-field carrier transport and impact ionization coefficients in 4H-SiC. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 173. 108126-108126
  • Seyed Ali Mojtahedzadeh, Hajime Tanaka, Nobuya Mori. Monte Carlo simulation of mobility enhancement in multilayer graphene with turbostratic structure. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 031004-031004
  • Masahiro Hara, Takeaki Kitawaki, Hajime Tanaka, Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto. Tunneling current through non-alloyed metal/heavily-doped SiC interfaces. Materials Science in Semiconductor Processing. 2024. 171. 108023-108023
  • Yutoku Murakami, Sachika Nagamizo, Hajime Tanaka, Nobuya Mori. Analysis of tunneling probability in heavily doped 4H-SiC Schottky barrier diodes based on complex band structure considering barrier potential. Japanese Journal of Applied Physics. 2024. 63. 3. 03SP46-03SP46
  • Ryoya Ishikawa, Hajime Tanaka, Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto. Origin of hole mobility anisotropy in 4H-SiC. Journal of Applied Physics. 2024. 135. 7. 075704
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MISC (6件):
  • 岡田 丈, 田中 一, 森 伸也. 半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱の量子論に基づく数値解析. 電子情報通信学会技術研究報告. 2023. 123. 250. 10-15
  • 田中 一. SISPAD 2023 レビュー. 電子情報通信学会技術研究報告. 2023. 123. 250. 1-6
  • 田中 一, 森 伸也. 4H-SiC MOS反転層における電子輸送のモデリング (シリコン材料・デバイス). 電子情報通信学会技術研究報告. 2018. 118. 291. 35-40
  • 藤原 寛朗, 森岡 直也, 田中 一, 須田 淳, 木本 恒暢. pチャネルSiナノワイヤMOSFETの移動度の結晶方位および断面形状依存性 (シリコン材料・デバイス). 電子情報通信学会技術研究報告. 2014. 114. 360. 7-11
  • 田中 一, 森 誠悟, 森岡 直也, 須田 淳, 木本 恒暢. 長方形断面Geナノワイヤの正孔移動度の断面形状およびサイズ依存性 (シリコン材料・デバイス). 電子情報通信学会技術研究報告. 2014. 114. 359. 1-6
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講演・口頭発表等 (115件):
  • SiC MOS界面におけるドナー不純物による電子束縛状態の解析
    (先進パワー半導体分科会 第10回講演会 2023)
  • Carrier Transport Simulations in Twisted Bilayer and Turbostratic Multilayer Graphene Systems
    (The 36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference 2023)
  • SISPAD 2023 レビュー
    (電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 2023)
  • 半導体ナノシートにおける表面ラフネス散乱の量子論に基づく数値解析
    (シリコンテクノロジー分科会 第246回研究集会 2023)
  • Semiconductor device simulation from first principles
    (The 24th Asian Workshop on First-Principles Electronic Structure 2023)
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学歴 (2件):
  • 2013 - 2017 京都大学 大学院工学研究科 電子工学専攻
  • 2009 - 2013 京都大学 工学部 電気電子工学科
学位 (1件):
  • 博士(工学)
経歴 (5件):
  • 2020/10 - 現在 大阪大学 大学院工学研究科 電気電子情報通信工学専攻 助教
  • 2019/04 - 2020/09 京都大学 大学院横断教育プログラム推進センター 特定助教
  • 2018/04 - 2019/03 大阪大学 日本学術振興会特別研究員(PD)
  • 2017/04 - 2018/03 京都大学 日本学術振興会特別研究員(PD)
  • 2015/04 - 2017/03 京都大学 日本学術振興会特別研究員(DC1)
委員歴 (7件):
  • 2023/12 - 現在 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) 2024 Program Committee Member
  • 2023/12 - 現在 2024 International Conference on Solid-State Devices and Materials (SSDM2024) Steering Committee Member
  • 2022/08 - 現在 Asia-Pacific Workshop on Advanced Semiconductor Devices (AWAD) Program Committee Member
  • 2021/06 - 現在 電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 専門委員
  • 2021/07 - 2023/10 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) 2023 Program Vice Chair
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受賞 (6件):
  • 2023/03 - 英国物理学会 Outstanding Reviewer Award
  • 2023/03 - 応用物理学会 論文奨励賞
  • 2022/03 - 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 研究奨励賞
  • 2016/11 - 応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第3回講演会 研究奨励賞
  • 2015/12 - IEEE EDS Kansai Chapter MFSK Award
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