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J-GLOBAL ID：201902000060719151   整理番号：19S2996948

Low-temperature reactive ion etching and microwave plasma etching of silicon

著者 (3件)： Tachi, Shinichi (Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.) ,  Tsujimoto, Kazunori (Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.) ,  Okudaira, Sadayuki (Central Research Laboratory, Hitachi Ltd.)
資料名： Applied Physics Letters
巻： 52  号： 8  ページ： 616-618  発行年： 1988年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0003-6951 
言語： 英語 (EN)