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J-GLOBAL ID：201902009923803846   整理番号：19S2449263

Detection and imaging of subsurface microcracks in silicon wafers using photoacoustic microscope

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著者 (4件)：
Nakata, Toshihiko

Nakata, Toshihiko について

(Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd.)

Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd. について

, 
Kembo, Yukio

Kembo, Yukio について

(Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd.)

Production Engineering Research Laboratory, Hitachi Ltd. について

, 
Kitamori, Takehiko

Kitamori, Takehiko について

(Department of Industrial Chemistry, The University of Tokyo)

Department of Industrial Chemistry, The University of Tokyo について

, 
Sa Wada, Tsuguo

Sa Wada, Tsuguo について

(Department of Industrial Chemistry, The University of Tokyo)

Department of Industrial Chemistry, The University of Tokyo について


資料名：
Japanese Journal of Applied Physics

Japanese Journal of Applied Physics について


巻： 31  ページ： 146-148  発行年： 1992年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)

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