文献

J-GLOBAL ID：201902010605685336   整理番号：19S2989123

Xecl excimer laser annealing used to fabricate poly-si tft’s

著者 (3件)： Sameshima, Toshiyuki (Sony Research Center, Waseda University) ,  Hara, Masaki (Sony Research Center, Waseda University) ,  Usui, Setsuo (Sony Research Center, Waseda University)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 28  号： 10 R  ページ： 1789-1793  発行年： 1989年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： LASER ,  TFT