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J-GLOBAL ID：201902014361840020   整理番号：19S2656058

Sub-half-micron i-line lithography by use of lmr-uv resist

著者 (6件)： Jinbo, Hideyuki (Oki Electric Industry Co. Ltd.) ,  Yamashita, Yoshio (Oki Electric Industry Co. Ltd.) ,  Endo, Akihiro (Oki Electric Industry Co. Ltd.) ,  Nishibu, Satoshi (Fuji Chemicals Industrial Co. Ltd.) ,  Umehara, Hiroshi (Fuji Chemicals Industrial Co. Ltd.) ,  Asano, Takateru (Fuji Chemicals Industrial Co. Ltd.)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 28  号： 10 R  ページ： 2053-2057  発行年： 1989年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)