Effect of applied external magnetic field on the relationship between the arrangement of the substrate and the resistivity of aluminium-doped ZnO thin films prepared by r.f. magnetron sputtering

文献

J-GLOBAL ID：201902016624005360 整理番号：19S3019660

著者 (4件)：

Minami, T.

Minami, T. について

(Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology)

Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology について

Nanto, H.

Nanto, H. について

(Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology)

Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology について

Sato, H.

Sato, H. について

(Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology)

Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology について

Takata, S.

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(Electron Device System Laboratory, Kanazawa Institute of Technology)

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資料名：

Thin Solid Films

Thin Solid Films について

巻： 164 号： C ページ： 275-279 発行年： 1988年
JST資料番号： SCOPUS ISSN： 0040-6090 CODEN： THSFA
言語：英語 (EN)

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ZnO

ZnO について

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